[其他]超聲清洗方法和設(shè)備無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 87101160 | 申請日: | 1987-12-18 |
| 公開(公告)號: | CN87101160A | 公開(公告)日: | 1988-06-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 丹尼爾·喬治·奧謝 | 申請(專利權(quán))人: | 伊斯曼柯達公司 |
| 主分類號: | B08B3/12 | 分類號: | B08B3/12;H01L21/00 |
| 代理公司: | 中國專利代理有限公司 | 代理人: | 程天正,林長安 |
| 地址: | 美國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 超聲 清洗 方法 設(shè)備 | ||
1.在一個上液面基本敞開的儲液槽中用電聲換能器清洗工件的方法包括下列步驟:
把工件安放在所述液槽中,使其至少有一個表面外露;
供給所述液槽液體;
使所述換能器和工件之間產(chǎn)生相對運動,而使工件相對換能器運動;改進部分包括下列步驟:
安放換能器,使其能量輻射端面緊挨液面放置,使激勵換能器會在流體中形成一個彎月形液面;
用一個能源激勵換能器,使之產(chǎn)生超聲波,在換能器端面和液體之間形成一個彎月形液面,從而把能量傳遞給流體以清洗工件,而在流體中產(chǎn)生最小的湍流。
2.依據(jù)權(quán)利要求1,本發(fā)明所述的換能器是靜止的,工件通過換能器而運動。
3.依據(jù)權(quán)利要求1,本發(fā)明所述的工件是靜止的,換能器通過工件而運動。
4.依據(jù)權(quán)利要求1,本發(fā)明包括供給儲液槽超純水這一步驟。
5.依據(jù)權(quán)利要求1,本發(fā)明的能源供給所述換能器的能量輻射表面每平方英吋70至120瓦功率。
6.依據(jù)權(quán)利要求1,本發(fā)明包括使工件的一個表面經(jīng)過換能器輻射表面這一步驟,兩表面相距大約為1/8吋至3/4吋。
7.依據(jù)權(quán)利要求1,本發(fā)明中的換能器能量輻射表面與流體表面基本平行。
8.在一個上液面基本敞開的儲液槽中用電聲換能器清洗工件的方法包括下列步驟:
把工件安放在位于槽的初始位置的支架上并使其至少有一個表面外露;
供給儲液槽液體;
使所述換能器和工件之間產(chǎn)生相對運動,從而使工件相對換能器運動;
使所述流體流過工件,其方向與換能器相對工件運動的方向相同,因此使得從工件表面清洗下來的塵粒沿流體運動方向穿越過工件。改進部分包括下列步驟:
把所述換能器的能量輻射端面緊挨流體上表面放置,使激勵換能器在流體中形成一個彎月形液面;
用一個頻率在20千赫至90千赫范圍內(nèi)的能源激勵所述換能器,使之產(chǎn)生超聲能量,超聲波向液槽發(fā)射,在換能器端面和液體之間形成彎月形液面,從而把能量傳遞給流體,形成一個致密的、輪廓分明的強旋渦區(qū)域,而在流體中產(chǎn)生的湍流最少。
9.依據(jù)權(quán)利要求8,本發(fā)明中的換能器能量輻射表面與流體表面基本平行。
10.在一個上液面基本敞開的儲液槽中用電聲換能器清洗半導(dǎo)體基片的方法包括下列步驟:
把半導(dǎo)體基片安放在位于槽的第一個位置的支架上并使其至少有一個表面外露;
把基片浸入所述液槽中;
供給儲液槽超純水;
把電聲換能器安放在第二個位置,使其輻射表面基本平行液面并從上面緊挨液面;
用一個頻率在20千赫至90千赫范圍內(nèi),能向所述換能器每平方英吋輻射表面提供70至120瓦功率的能源來激勵換能器,使之產(chǎn)生超聲波,超聲波進入儲液槽,在換能器端面和液體之間形成彎月形液面,從而把能量傳給液體,形成一個致密的、輪廓分明的強旋渦區(qū)域;
使所述基片在強旋渦區(qū)域從第一個位置出發(fā),沿第一方向通過換能器在上述強旋渦區(qū)內(nèi)移動,基片的一個表面面對輻射表面,兩表面相距大約1/8吋至3/4吋;
使超純水無湍流地流過換能器和基片,其流動方向與基片通過換能器的方向相反;
從液槽中取出基片。
11.用于在液槽中清洗工件的設(shè)備包括:
一個工件支架;
用于形成上液面基本敞開的液槽的裝置;
把工件安放在位于液槽中第一位置的支架上的裝置,使工件至少有一個表面外露;
向液槽供給流體的裝置;
位于第二位置的電聲換能器裝置;
用一個頻率范圍大約在20千赫至90千赫之間的能源激勵所述換能器的裝置,使之在槽中產(chǎn)生超聲波,形成一個致密的、輪廓分明的強旋渦區(qū)域;
一個能使上述支架和工件相對換能器運動的裝置,從而使工件的一個表面通過上述強旋渦區(qū)域;
一個能使流體流過工件的裝置,流動方向與換能器相對工件運動的方向一致;改進部分包括:
一個安放換能器的裝置,使換能器的能量輻射表面緊挨槽中流體液面上方,因此當(dāng)換能器被激勵時,在換能器和流體之間形成彎月形液面。
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