[其他]工業(yè)鎳磷電鍍無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 87104216 | 申請日: | 1987-06-15 |
| 公開(公告)號: | CN87104216A | 公開(公告)日: | 1988-05-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 羅格·L·干布林;約翰·A·列支登伯格;南希·E·美耶;戴維·J·薩格 | 申請(專利權(quán))人: | 伯林頓工業(yè)公司 |
| 主分類號: | C25D3/56 | 分類號: | C25D3/56 |
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進委員會專利代理部 | 代理人: | 李強 |
| 地址: | 美國北卡*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 工業(yè) 電鍍 | ||
1、通過(a)將基底作為陰極浸入電鍍液(20);(b)將陽極(10)浸入電鍍液;和(c)在陽極和陰極之間加電壓(32)將鎳和/或鈷磷合金電鍍在基底(26)上的方法;其特征在于:
使用包括大量亞磷酸和少量磷酸的電鍍液,并實行步驟(c),使得將鎳和/或鈷磷合金電鍍在基底上,同時保持陽極電流密度是夠高,使其基本避免電鍍液中磷酸的積累,從而明顯提高電鍍液的壽命命。
2、如權(quán)利要求1所述的方法,其特征還在于電鍍液的開始成分一般包括約1.25克分子濃度H3PO3,約0.30克分子濃度H3PO4,約0.75克分子濃度CoCl2和/或N1-Cl2,和約0.25克分子濃度NiCO3;并實行步驟(3)使H3PO4的濃度不升到約0.50克分子濃度以上。
3、將鎳和/或鈷磷合金電鍍在基底(26)上的方法,使用包括亞磷酸和/或磷酸的電鍍液(20),包括以下步驟:(a)將作為陰極的基底浸入電鍍液;(b)將陽極(10)浸入電鍍液;和(c)在陽極和陰極之間加電壓(32)使鎳和/或鈷合金電鍍在基底上,其特征在于:
通過保持足夠高的陽極電流密度實行步驟(c),使電鍍液中游離酸的濃度保持在酸滴定度為約9-14的范圍內(nèi)。
4、如權(quán)利要求3所述的方法,其特征還在于通過將陽極電流密度保持為至少每平方呎約200安培的最小值來實行步驟(c)。
5、如權(quán)利要求4所述的方法,其特征還在于實行步驟(a)-(c)以工業(yè)生產(chǎn)電器觸點,刀具,鋁制品,炊具,航海構(gòu)件,塑料物品,流體噴口蓋板(26,415),珍寶,計算機記憶盤或耐磨件。
6、用于將鎳和/或鈷磷合金電鍍到基底上的裝置,包括:含NiCl2和/或CoCl2,亞磷酸和磷酸的電鍍液(20);放置在電鍍液中作為陰極的待電鍍工件(26,415);陽極(10,212,312),和聯(lián)接到陽極和陰極上的電源(32,232,332);其特征在于:
所述陽極包括許多遠遠分開的部分(12,212,312),所述陽極材料選自包括鉑和銠的一組材料。
7、如權(quán)利要求6所述的裝置,其特征還在于:所述陽極包括:金屬匯流條(214);至少一根沿所述匯流條分開在連接點(46,47)連在所述匯流條上的鉑或銠線(212);和能夠經(jīng)受所述電鍍液的腐蝕環(huán)境并不污染電鍍液的絕緣材料裝置(44,45),所述絕緣裝置覆蓋所述連到所述匯流條上的所述線的連接處的所述,線和匯流條,在不被所述絕緣覆蓋層覆蓋處的線暴露在電鍍液之中。
8、用于將非晶的可延展的鎳磷鍍層電鍍到基底上的電鍍液,其特征在于:約0.5-1.0克分子濃度鎳,約1.5-3.0克分子濃度亞磷酸,約0.1-0.6克分子濃度磷酸和約0.9-0.6克分子濃度的鹽酸,其中氯離子的量至少為1.25M,并大于鎳離子的一倍以上。
9、生產(chǎn)抗硝酸腐蝕的非晶的可延展有金屬光澤的鎳磷合金薄膜結(jié)構(gòu),通過特征為將基底浸入無緩沖電鍍液作為陰極直至在基底上淀積出所需厚度的合金的步驟在基底上進行電鍍,上述電鍍液包括鎳,磷,大量鹽酸,具有上限為約2.0克分子濃度的氯離子。
10、具有大于由急冷所能得到的厚度的抗硝酸腐蝕的非晶鎳磷合金,其特征在于有如下性質(zhì):對于25微米厚的箔結(jié)構(gòu)接受ASTM對電鍍層延展性的千分尺彎曲測試其延展性至少與約5%相當。
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