[其他]玻璃的電熔化工藝方法

無效

• 申請號: 87104676
• 申請日: 1987-06-06
• 公開（公告）號: CN87104676A
• 公開（公告）日: 1987-12-23
• 發明（設計）人: 菲利普·多當;皮埃爾-埃馬紐埃爾·萊維;讓-伊夫·奧貝;貝爾納·迪普萊西;馬塞爾·布瓦旺
• 申請（專利權）人: 圣戈班研究公司
• 主分類號: C03B5/027
• 分類號: C03B5/027
• 代理公司: 中國專利代理有限公司
• 代理人: 楊松齡

1、用于處理玻璃爐料的電熔化工藝方法，其中通過在熔融料中的垂直浸插的電極使能量以焦耳效應的方式耗散，欲熔融的組分以均勻的相層散布在熔浴的表面，其特征是其中的電極是與耐高溫熔化池壁保持一定的距離分布的，電極與最靠近的側壁的距離至少是相鄰的兩個電極之間距離的一半，而且其中的最高溫度值是由電極的浸插深度所調節。

2、據權利要求1的方法，其中熔浴的深度至少是500毫米。

3、據權利要求2的方法，其中在操作狀態下電極的浸插深度不超過熔浴深度的四分之三。

4、據權利要求2的方法，其中在操作狀態下電極的浸插深度不超過熔浴深度的一半。

5、據上述權利要求中之一的方法，其中在處理硅-鈉-鈣玻璃時，當其操作量是2.5噸/米²日以上時，熔爐底的溫度值維持在1400℃以下。

6、據上述權利要求中之一的方法，其特征是在生產硅-鈉-鈣玻璃時，當其操作量是在1噸/米²日以上時，其能量消耗都小于1000千瓦小時/噸玻璃。

7、用于處理玻璃爐料的電解熔化爐，其中在熔融料中能量是以焦耳效應的方式耗散的，熔化電極從熔?。?）表面開始，穿過覆蓋熔浴的欲熔化組分的表面層（10）垂直浸插至熔浴中，其特征在于，電極（7）是由移動式支撐物（18，26）攜帶，支架和電極的連接緊緊地位于熔浴表面下，組成電極（7）的構件是可相互替換的，不同長度的構件組（7）可以改變其浸插深度，因此熔浴的區域所持的溫度為最高。

8、用于處理玻璃爐料的電解熔化爐，其中在熔融料中能量是以焦耳效應的方式耗散的，熔化電極從熔浴（9）表面開始，穿過覆蓋熔浴的欲熔化組分的表面層（10）垂直浸插至熔浴中，其特征在于，它包括耐高溫熔化池，有規則地分布在熔浴表面上的通入三相電流的電極（7），這些電極至少分布成每排各有三個電極的兩排電極組，第一排的電極分別供入R.S.T分布的三相之一，另一排的電極分別供入T.S.R相反分布的三相之一，R.S.T和T.S.R的相反分布使每排中的當中的電極變成同相，而每排兩端的電極則變成異相，兩排之間的距離與同一排中兩個電極之間距離近似相等，熔化池耐高溫側壁與最近電極之間的距離至少是兩個相鄰電極之間距離的一半。

9、據權利要求7或權利要求8中之一的熔化爐，其中的熔浴深度至少是500毫米。

10、據權利要求7-9中之一的熔化爐，其中熔化池頂上置有耐高溫的拱頂（12），把電極（7）和支撐這些電極的構件（18、20）插入到拱頂（12）和熔化池之間的空間，其中熔爐的側邊沒有貫穿拱頂。

11、據權利要求7-9中之一的熔化爐，其中電極（7）和它的支架（26）固定在與軸（19）相鉸接的支臂18上，支臂（18）的形狀和其鉸接位置（19）能夠使電極及其支架通過圍繞軸（19）的支臂（18）的搖轉而被提舉。

12、據權利要求7-11中之一的熔化爐，其中通過位于電極（7）和其它支撐構件（18，26）上方的裝置（13）向熔化池輸送欲熔化的組分，這裝置（13）是可以移動的，通過它在熔化池上方的移動即可確保組分（10）能完全覆蓋在熔化池表面上。

13、據權利要求12的熔化爐，其中供料用的裝置（13）包括在整個熔化池寬度上展開的分布裝置（13），該分布裝置能在占居整個熔化池長度的軌道（14）上移動。

14、據權利要求13的熔化爐，其中還包括置于熔化爐一端的用于向裝置（13）加料的設備（16）。

15、據權利要求10的熔化爐，其中還包括一個或幾個可移動的垂直板壁（17），使其在熔化爐停車“備用”期間與拱頂（12）一起在熔化池上方合攏，在熔爐處于操作狀態時，這些可移動的板壁抽回原處，在熔化池和拱頂（12）之間留有能足以使提供欲熔化組分的裝置（13）自由通過的空間。