[其他]高溫過程的低輻射薄膜

無效

• 申請號: 87105971
• 申請日: 1987-12-26
• 公開（公告）號: CN87105971A
• 公開（公告）日: 1988-08-31
• 發明（設計）人: 詹姆斯·約瑟夫·芬利
• 申請（專利權）人: PPG工業公司
• 主分類號: C23C14/36
• 分類號: C23C14/36;C23C14/06;C03C17/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利代理部
• 代理人: 羅英銘

1、一種透射性好，輻射性低的能導電加熱的制品組成如下：

a.透明的非金屬的襯底；

b.由氧化鋅沉積在上述襯底表面組成的第一個透明的抗反射金屬氧化物薄膜；

c.一種沉積在上述抗反射氧化鋅層上面的透明的，紅外線反射金屬薄膜；

d.一種沉積在上述紅外線反射金屬膜上面的含金屬的底涂層，其中的金屬選自鈦、鋯、鉻、鋅/錫合金以及它們的混合物；

e.第二個透明的抗反射膜，由沉積在上述含金屬底涂層上的氧化鋅組成。

2、按照權利要求1的一種制品，其中襯底是玻璃。

3、按照權利要求2的一種制品，其中反射金屬膜是銀。

4、權利要求3的制品，其中的金屬氧化物含由含鋅和錫的合金氧化的產物。

5、按照權利要求1的一種制品，其中的底涂料膜含鈦。

6、按照權利要求1的一種制品，在上述的第一透明抗反射膜和透明紅外線反射金屬膜之間還進一步包含一個附加的底涂層。

7、按照權利要求1的一種制品，其中在第一抗反射金屬氧化膜上還沉積有含金屬的保護層。

8、一種沉積耐高溫薄膜的方法，包括的步驟如下：

a.在一種含氧的活性氣氛中，濺射一個含鋅陰極靶，在襯底的表面上沉積第一層含鋅氧化物膜;

b.濺射一個反射金屬膜覆蓋住上述金屬氧化物層;

c.濺射一個含金屬的底涂層覆蓋在上述反射金屬膜上面，這里所說的底涂層金屬選自鈦，鋯，鉻，鋅/錫合金以及它們的混合物;

d.濺射第二個含鋅氧化物膜覆蓋在上述底涂層上面。

9、按照權利要求8的一種方法，其中的襯底是玻璃。

10、按權利要求9的方法，其中的金屬氧化物膜含有鋅和錫的合金的氧化物。

11、按權利要求10的方法，其中的底層含鈦。

12、按權利要求8的方法，其中還包括在第二層合金氧化物膜上沉積含金屬的保護沉積層。

13、按權利要求8的方法，其中包括使得到的多層涂層制品經高溫加工的步驟，由此增加涂層的透明性。

14、按權利要求13的方法，其中所說的高溫加工還將涂層制品層壓到另一透明板上，涂層在中間，以形成無彩色、導電、可加熱的涂層透明制品。

15、制造一種多層低輻射涂層產品的方法，包括的步驟如下：

a.把一種透明的非金屬襯底放到濺射室中;

b.在一種含氧的活性氣氛中濺射含鋅/錫合金的陰極靶，在上述襯底表面上沉積一種透明的金屬合金氧化物薄膜;

c.濺射一種鈦靶，在上述的氧化膜上沉積一種底涂層;

d.在一種惰性氣氛中濺射一種銀陰極靶，在上述底層上沉積一種透明銀膜;

e濺射鈦靶，在上銀膜上沉積第二底層;

f.在一種含氧的活性氣氛中，濺射鋅錫合金陰極靶，在上述底涂層上沉積一層氧化物膜。

16、按照權利要求15的方法，其中襯底是玻璃。

17、按照權利要求16的方法，其中還包括在第二層金屬氧化物膜上沉積含金屬的保護層。

18、按照權利要求17的方法，其中的底層涂層含鈦。