[其他]化合物

無效

• 申請號: 87106573
• 申請日: 1987-09-03
• 公開（公告）號: CN87106573A
• 公開（公告）日: 1988-07-27
• 發明（設計）人: 特雷弗·羅伯特·佩利亞;戴維·約瑟夫·塔波塞
• 申請（專利權）人: 帝國化學工業公司
• 主分類號: C07D213/84
• 分類號: C07D213/84;C07D213/83;C07D213/64;C07D213/61;C07D213/24;C07D213/02;A01N43/40
• 代理公司: 中國專利代理有限公司
• 代理人: 林玉貞,馬崇德

1、式(Ⅰ)表示的化合物，

其中R¹，R²，R⁴和R⁵各自獨立選自氫，鹵素，可被鹵素取代的低級烷基，可被鹵素取代的低級烷氧基和可被鹵素取代的低級鏈烯基；R³是鹵素，氨基，單或二(低級烷基)氨基，鹵素取代的低級烷基，可被鹵素取代的低級烷氧基和可被鹵素取代的低級鏈烯基，但須R³不是單氯或單溴取代的甲基；

R⁶是氧或硫；

R⁷和R¹⁰各自獨立選自氫，鹵素，可被鹵素取代的低級烷基，可被鹵素取代的低級烷氧基和可被鹵素取代的低級硫代烷氧基；以及

R⁸是氫，鹵素，可被取代的低級烷基，可被取代的低級烷氧基，可被取代的低級硫代烷氧基，氰基，硝基，可被取代的肟基，可被取代的低級鏈烯基，可被取代的芳氧基，可被取代的氨基或S(O)nR¹¹，其中n是0，1或2，R¹¹是可被取代的低級烷基；

R⁹是氫，或可被鹵素取代的低級烷基，可被鹵素取代的低級鏈烯基或CO₂R¹²，其中R¹²可被鹵素取代的低級烷基；但須R¹，R²，R³，R⁴和R⁵不全是氫；還須當R³是三氟甲基并且R¹和R⁵是氫時，R²和R⁴不全是氫，或者R⁷，R⁸，R⁹和R¹⁰不包括1至4個鹵素原子或三鹵甲基取代基。

2、根據權利要求1的化合物，其中R³是鹵素，氨基或鹵代（低級）烷基。

3、根據權利要求1或2的化合物，其中R¹和R⁵各自獨立表示氫，氟，氯或溴。

4、根據前述權利要求之一的化合物，其中R⁸是氫，鹵素，可被鹵素或羥基取代的低級烷基;氰基;硝基;可被低級烷基、芳基、低級鏈烯基或芳烷基取代的肟基，其中芳基部分可被鹵素或硝基取代;可被鹵素或氰基取代的低級鏈烯基;氨基;或者S（O）nR¹¹，其中n是0，1或2，R¹¹是可被鹵素取代的低級烷基。

5、根據權利要求4的化合物，其中R⁸是氫或氰基。