[其他]化合物薄膜形成裝置

無效

• 申請號: 87107161
• 申請日: 1987-10-21
• 公開（公告）號: CN87107161A
• 公開（公告）日: 1988-05-11
• 發明（設計）人: 伊藤弘基
• 申請（專利權）人: 三菱電機株式會社
• 主分類號: C23C14/30
• 分類號: C23C14/30;H01L49/02;H01L27/00
• 代理公司: 中國專利代理有限公司
• 代理人: 葉凱東,吳秉芬

1、一種化合物薄膜形成裝置，包括：保持有所定真空度的真空槽，設置在該真空槽內的襯底，向這襯底噴出蒸鍍物質的蒸氣、并產生上述蒸鍍物質的塊狀原子團的蒸氣發生源，設置在該蒸氣發生源與所說襯底之間并使上述原子團的至少一部分電離的電離機構，設置在該電離機構與所說襯底之間并將通過上述電離機構而被電離了的原子團以及設有電離的蒸鍍物質的原子團及蒸氣向上述襯底碰撞的加速電極，其特征在于，該化合物薄膜形成裝置備有：設置在所說真空槽內的內部槽，設置在該內部槽的內側、用以噴射反應性氣體的氣體噴射噴嘴，設置在該氣體噴射噴嘴的反應性氣體的噴射方向上、用以引出電子束的電子束引出電極，設置在該電子束引出電極的反應性氣體的噴射方向上、用以放出電子束的電子束放出機構，在上述的內部槽中，設置在所說電子束引出電極及所說電子束放出機構的外側、用以對所說電子束引出電極和電子束放出機構進行電位屏蔽的電場屏蔽板，設置在該電場屏蔽板與所說襯底之間、用以對上述電子束引出電極及所說電子束放出機構進行正電位偏置、并且將上述反應性氣體加速的加速電極。

2、權利要求1的化合物薄膜形成裝置，其特征在于，所說電場屏蔽板與電子放出機構的電位相同或被偏置，使它對于電子束放出機構呈負電位。