[其他]可曝光成象的焊接掩膜涂料無效
| 申請號: | 87107321 | 申請日: | 1987-12-08 |
| 公開(公告)號: | CN87107321A | 公開(公告)日: | 1988-06-22 |
| 發明(設計)人: | 桑格維特·賽特哈查亞農 | 申請(專利權)人: | 阿姆斯特朗電界工業公司 |
| 主分類號: | G03C1/68 | 分類號: | G03C1/68;G03F7/26 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利代理部 | 代理人: | 任宗華,林柏楠 |
| 地址: | 美國賓夕*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 曝光 成象 焊接 涂料 | ||
1、一種可光成象的涂料組合物,其特征在于:該組合物含有一種選自羧酸化氨基甲酸酯二甲基丙烯酸酯、羧酸化氨基甲酸酯二丙烯酸酯、羧酸化氨基甲酸酯三丙烯酸酯和羧酸化氨基甲酸酯三甲基丙烯酸酯的聚合物;通過使含有成分(a)、(b)和(c)的反應混合物縮合制備該紫外線光敏聚合物,成分(a)是一種帶有6至8個碳原子的二異氰酸酯,成分(b)是通式為[OH]x-R6-COOH的羧酸多羥基化合物,式中X可以是2至5的整數,R6是直鏈或支化,飽和、不飽和或芳香類帶2至29個碳原子的烴基,成分(c)選自二丙烯酸羥烷酯、二甲基丙烯酸羥烷酯、三丙烯酸羥烷酯和三甲基丙烯酸羥烷酯,其中每個烷基帶有2至28個碳原子;成份(a)的用量為約反應混合物總重量的30%至約80%;成份(b)的用量為約反應混合物總重量的5%至約45%而使每克反應混合物總量的酸量至少為約0.3毫克當量;成份(c)的用量為約反應混合物總重量的5%至約50%而使每克反應混合物總量的丙烯酸酯量至少為0.5毫克當量。
2、權利要求1所述的組合物,其特征在于還含有一種粘合劑和/或一種交聯劑。
3、權利要求1所述的組合物,其特征在于反應混合物還包括一種帶有2至28個碳原子和2至5個羥基的多羥基化合物。
4、權利要求1所述的組合物其特征在于反應混合物還包括一種通式如下的二元羧酸:
〔OH〕y-R7-(COOH)2
式中y是1至5的整數,R7是帶1至28個碳原子的烴基。
5、權利要求1所述的組合物,其特征在于組分(b)還選自α,α-二羥甲基乙酸、α,α-二羥甲基丙酸、α,α-二羥甲基丁酸、α,α-二羥乙基乙酸、α,α-二羥乙基丙酸和α,α-二羥乙基丁酸。
6、權利要求2所述的組合物,其特征在于粘合劑是玻璃化轉變溫度為約155℃或更高的苯乙烯/馬來酸酐共聚物。
7、權利要求1所述的組合物,其特征在于每克總量的反應混合物帶有約0.8至1.6毫克當量的酸。
8、權利要求4所述的組合物,其特征在于反應混合物還含有帶2至5個羥基和2至28個碳原子的多羥基化合物。
9、前述任一項權利要求所述的組合物,其特征在于二異氰酸酯選自:1-異氰酸基-3-異氰酸基-甲基-3,5,5-三甲基環己烷;二甲苯基二異氰酸酯;3,3′-二甲基二苯基甲烷-4,4′-二異氰酸酯;2,4-亞芐基二異氰酸酯;2,6-亞芐基二異氰酸酯;2,2,4-三甲基己撐二異氰酸酯;2,4,4-三甲基己撐二異氰酸酯;甲撐二(4-環己基二異氰酸酯);己撐二異氰酸酯;1,5-亞萘基二異氰酸酯;間苯二異氰酸酯;間-四甲基二甲苯二異氰酸酯;對四甲基二甲苯二異氰酸酯和甲撐二苯基二異氰酸酯。
10、一種制備紫外線光敏聚合物的方法,其特征在于該方法包括用含有下列成分(a)、(b)和(c)的反應混合物進行縮合反應,成分(a)是帶有6至18個碳原子的二異氰酸酯;成分(b)是具有下列通式的羧酸多羥基化合物:〔OH〕x-R6-COOH,式中X可是2至5的整數,R6是直鏈或支化、飽和、不飽和或芳香類帶有2至29個碳原子的烴基;成分(c)選自羥烷基二丙烯酸酯、羥烷基二甲基丙烯酸酯、烴烷基三丙烯酸酯和羥烷基三甲基丙烯酸酯,其中每個烷基帶有2至28個碳原子;成分(a)的用量為約反應混合物總重量的30%至約80%,組分(b)的用量為反應混合物總重量的5%至約45%;每克反應混合物總量至少用約0.3毫克當量酸;組分(c)的用量為約反應混合物總重量的5%至約50%,每克反應混合物總量至少用約0.5毫克當量丙烯酸酯。
11、權利要求10所述的方法,其特征在于二異氰酸酯選自1-異氰酸基-3-異氰酸基-甲基-3,5,5-三甲基環己烷;2,4-亞芐基二異氰酸酯、2,6-亞芐基二異氰酸酯;2,4,4-三甲基己撐二異氰酸酯;2,2,4-三甲基己撐二異氰酸酯;甲撐二(4-環己基二異氰酸酯);己撐二異氰酸酯;間-四甲基二甲苯二異氰酸酯;二甲苯二異氰酸酯;3,3′-二甲基二苯基-4,4′-二異氰酸酯;1,5-亞萘基二異氰酸酯;間苯二異氰酸酯、對四甲基二甲苯二異氰酸酯和甲撐二苯基二異氰酸酯。
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