[其他]測量離子濃度及其類似的方法、刻度片及其中使用的測量裝置的刻度方法無效
| 申請號: | 87107352 | 申請日: | 1987-12-10 |
| 公開(公告)號: | CN87107352A | 公開(公告)日: | 1988-06-22 |
| 發明(設計)人: | 小谷晴夫;富田勝彥 | 申請(專利權)人: | 株式會社堀場制作所 |
| 主分類號: | G01N27/26 | 分類號: | G01N27/26;G01N1/30 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利代理部 | 代理人: | 趙蓉民 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 測量 離子 濃度 及其 類似 方法 刻度 其中 使用 裝置 | ||
1、一種測量離子濃度及其類似量的方法,其特征在于:樣品中的離子濃度及其類似量的測量是利用浸漬一塊容易吸收帶有樣品的溶液的材料,然后,把上述容易吸收溶液的材料拿來與測量部分相接觸而完成的。
2、權利要求1提出的測量離子濃度及其類似量的方法,其特征在于:上述容易吸收溶液的材料直接用液體樣品浸漬。
3、權利要求1提出的測量離子濃度及其類似量的方法,其特征在于:上述容易吸收溶液的材料對測量不發散干擾成份的非干擾液體浸漬,而且容易吸收溶液的材料被拿來與比較干燥的樣品相接觸。
4、權利要求1提出的測量離子濃度及其類似量的方法,其特征在于:上述容易吸收溶液的材料用對測量不發散干擾成份的非干擾溶液浸漬,而且容易吸收溶液的材料被拿來與氣態的樣品相接觸。
5、權利要求1提出的測量離子濃度及其類似量的方法,其特征在于:粉末狀或固體的樣品被放在容易吸收溶液的材料的上表面,該容易吸收溶液的材料被拿來與測量部分相接觸。而且對測量不發散干擾成份的非干擾溶液被一滴一滴地加在粉末狀或固體的樣品上。
6、離子濃度及其類似量測量裝置刻度中所用的片子,其特征在于:刻度緩沖溶液被吸收在化學上穩定化的、吸濕的、不洗提離子的水吸收片中,然后把水吸收片弄干。
7、一種刻度離子濃度及其類似量測量裝置的方法,其特征在于:把刻度中所用的片子拿來與離子濃度及其類似量測量裝置的電極相接觸,把指定數量的純水一滴一滴地加到上述刻度中所用的片子上來進行指定的刻度。刻度中所用的片子是依靠把刻度緩沖溶液吸收在化學上穩定化的、吸濕的、不洗提離子的水吸收片中,然后把水吸收片弄干而得到的。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于株式會社堀場制作所,未經株式會社堀場制作所許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://m.szxzyx.cn/pat/books/87107352/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





