[其他]蒸鍍用的氧化釔組成物及反射防止膜的制造方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 87107819
• 申請(qǐng)日: 1987-11-12
• 公開（公告）號(hào): CN87107819A
• 公開（公告）日: 1988-08-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 坪井俊吾
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 三菱電機(jī)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C23C14/08
• 分類號(hào): C23C14/08
• 代理公司: 上海專利事務(wù)所
• 代理人: 王麗川

1、一種蒸鍍用的氧化釔組成物，其特征在于含有氧化鈦和氧化鋯。

2、一種如權(quán)利要求1所述的蒸鍍用氧化釔組成物，其特征在于氧化鈦的含量為0～7.3%重量，氧化鋯的含量為0～90%重量。

3、一種如權(quán)利要求1或2所述的蒸鍍用氧化釔組成物，其特征在于是在把氧化釔、氧化鈦和氧化鋯混合后燒結(jié)成片劑狀。

4、一種反射防止膜的制造方法，其特征在于使用含有氧化鈦和氧化鋯的蒸鍍用氧化釔組成物制造如硅或Ga??As那樣的Ⅲ-Ⅴ族化合物半導(dǎo)體的薄膜。

5、一種如權(quán)利要求4所述的反射防止膜的制造方法，其特征在于用電子槍加熱氧化釔組合物。