[其他]中子測(cè)水儀探頭無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 87206967 | 申請(qǐng)日: | 1987-05-04 |
| 公開(公告)號(hào): | CN87206967U | 公開(公告)日: | 1988-03-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 宋炎太;鄭國(guó);田惠興;霍連啟 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 首都鋼鐵公司 |
| 主分類號(hào): | G01N23/00 | 分類號(hào): | G01N23/00 |
| 代理公司: | 首都鋼鐵公司專利代理事務(wù)所 | 代理人: | 李本源,羅桂宏 |
| 地址: | 北京市*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 中子 測(cè)水儀 探頭 | ||
本實(shí)用新型是一種新型的高靈敏度表面型中子水分儀探頭,屬于核技術(shù)應(yīng)用儀表。
在工業(yè)生產(chǎn)中,需要測(cè)量物料的水分含量。例如煉鐵生產(chǎn)中焦碳水分波動(dòng)直接影響高爐爐況和爐溫。爐溫的波動(dòng)不僅關(guān)系到生鐵含硫量和含硅量的波動(dòng),影響生鐵質(zhì)量,還增大焦比和能耗。為了實(shí)現(xiàn)連續(xù)準(zhǔn)確地測(cè)量物料水分,利用中子測(cè)量水分是行之有效的方法。
目前所用的中子水分儀探頭分插入式和表面式兩種。插入式是把探頭插入物料中進(jìn)行測(cè)量,由于探頭接觸待測(cè)物料,保護(hù)套管易麼損造成探測(cè)器損壞或放射源丟失,安裝維修非常不便。
表面式中子水分儀的探頭安裝在待測(cè)物料料倉(cāng)壁外表面,克服了上述插入式中子水分儀的種種缺點(diǎn)。但目前世界上這種儀器的探頭體積較大,重量較重,放射源也較強(qiáng)且無(wú)防護(hù)設(shè)計(jì)。中子水分儀常常需要裝在苛刻的環(huán)境中(如作業(yè)空間狹窄、高空、粉塵濃度大等)因此上述缺點(diǎn)就限制了它的應(yīng)用范圍。
本實(shí)用新型的目的就是要研制出一種新結(jié)構(gòu)的探頭,使它具有尺寸小,重量輕,放射源強(qiáng)度小,表面劑量率低,精度高且安裝維護(hù)簡(jiǎn)單,易于防護(hù),應(yīng)用范圍廣的特點(diǎn)。
本實(shí)用新型是通過(guò)下述方案完成的:
1.為減少放射源的強(qiáng)度,降低探頭表面的中子泄漏量,從而利于防護(hù)和應(yīng)用,并降低成本,我們?cè)谔筋^結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)上采用了快中子反射體,放射源發(fā)射出的快中子經(jīng)過(guò)反射體反射,射向被測(cè)物料中的快中子通量增加。反射體可制成園盤狀,底部厚,周邊薄。如附圖1.所示。可用普通鋼板或硼鋼或石墨等材料制成。
2.為保護(hù)中子源,又要把對(duì)中子的吸收減到最小,以增加探測(cè)器處的熱中子濃度,在探頭前安裝了對(duì)中子吸收系數(shù)小且耐磨的保護(hù)板,其厚度在現(xiàn)場(chǎng)允許的條件下越薄越好,材質(zhì)以對(duì)中子的吸收減小到最小且耐磨為原則。如氧化鋁或鑄石。
3.為提高探測(cè)效率,我們采用了高靈敏度熱中子探測(cè)器如3He計(jì)數(shù)管或BF3計(jì)數(shù)管,四支并聯(lián)使用,其測(cè)量靈敏度達(dá)到水分每變化百分之一引起的熱中子計(jì)數(shù)率為40--70個(gè)/秒。
4.為減少探頭體積,降低探頭非工作表面的中子泄漏量,以利于對(duì)操作人員的輻射防護(hù)。在反射體的后面設(shè)計(jì)了由輕質(zhì)高含氫材料制作的快中子慢化體和熱中子吸收體。
慢化體材質(zhì)用石臘或含硼石臘或聚乙烯或有機(jī)玻璃或塑料。吸收體材質(zhì)用硼砂或鎘板。
用本實(shí)用新型制成的中子探頭具有體積小,重量輕,中子源強(qiáng)度小,中子泄漏量小,測(cè)量精度高等優(yōu)點(diǎn)。
附圖1????????反射體示意圖。
附圖2????????中子探頭儀示意圖。
其中:1--中子源????????2--計(jì)數(shù)管????????3--反射體????????4--耐磨保護(hù)板????????5--慢化體????????6--吸收體????????7--防護(hù)罩。
實(shí)施例:按照本實(shí)用新型制成的中子探頭如附圖2.所示。外型尺寸約∮300×300MM(而美國(guó)Kay-Ray公司的2500×型為∮500×500mm);重35--40Kg(2500x型約75Kg);反射體用4--7厘米厚的鋼板,慢化體用∮296×200的聚乙烯,吸收體用1--2MM厚的鎘板,探測(cè)器用四支BF3管并聯(lián),保護(hù)用純度90%以上的氧化鋁板,厚為5~15MM。用300毫居里的241AM-BE中子源,典型測(cè)量精度為0.3%。非工作表面泄漏劑量率為2.2毫雷姆/小時(shí),(而2500X型用500毫居里源,典型精度0.5%,泄漏劑量率7.5毫雷姆/小時(shí))。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于首都鋼鐵公司,未經(jīng)首都鋼鐵公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://m.szxzyx.cn/pat/books/87206967/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N23-00 利用未包括在G01N 21/00或G01N 22/00組內(nèi)的波或粒子輻射來(lái)測(cè)試或分析材料,例如X射線、中子
G01N23-02 .通過(guò)使輻射透過(guò)材料
G01N23-20 .利用輻射的衍射,例如,用于測(cè)試晶體結(jié)構(gòu);利用輻射的反射
G01N23-22 .通過(guò)測(cè)量二次發(fā)射
G01N23-221 ..利用活化分析法
G01N23-223 ..通過(guò)用X射線輻照樣品以及測(cè)量X射線熒光





