[其他]用于平衡周圍電磁輻射的裝置無效
| 申請號: | 88103464 | 申請日: | 1988-06-04 |
| 公開(公告)號: | CN88103464A | 公開(公告)日: | 1988-12-28 |
| 發明(設計)人: | 弗朗索瓦E·德克爾 | 申請(專利權)人: | 聯合王國比奇技術有限公司 |
| 主分類號: | G12B17/02 | 分類號: | G12B17/02;H05K9/00 |
| 代理公司: | 上海專利事務所 | 代理人: | 顏承根 |
| 地址: | 英國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 平衡 周圍 電磁輻射 裝置 | ||
本發明涉及一種平衡周圍電磁輻射的裝置,尤其是由電機和電氣機床或電氣、電子儀器放射出的射線,目的在于預防使這種機器或儀表的使用者或使那些站在這種機器附近的人避免發生生理失調。
眾所周知電機和電氣機床通常發射各種波長的電磁射線。但是在近幾年人們才開始漸漸地認識到有些電子設備和儀器的日常使用者,包括那些在辦公室或每天的家庭生活中越來越通用的設備和電子裝置的使用者,容易發生生理失調。辦公室CRT屏幕監視器的使用者和電視收看者情況就是這樣的。在許多國家中收集的統計資料尤其表明這種電子設備的經常操作者通常患有這些疾病,如視力疾病、暈眩,肌肉痛和肌肉變硬,頭痛、和過敏反應。
雖然,這些疾病的真實原因仍沒有被完全了解并予以解釋,觀察、研究這些現象的專家認為它們主要是由于機器發出的電磁射線的結果。
在申請人基于這種觀點即當活細胞處于已平衡的電磁場中才自然地生長和發育而對此問題進行了研究,認為上述疾病和生理失調是由于在周圍的電磁波的不平衡引起的,這是起因于過量的有害波,尤其是電子設備產生的那些過量的有害波。
本發明的目的在于提供平衡由一機器在當地產生的有害輻射的裝置。根據本發明該目的通過這一裝置來實現,該裝置包括一由非金屬材料組成的容器和在該容器中至少放置一個相互作用的組件,每個組件包括兩部分,第一部分由永久磁鐵構成,第二部分是由碳、天然的或人造的石墨或鎂組成的一根桿,所述兩部分相互分離以使所述桿由上述磁鐵產生的磁力線所切割。這容器有一固定或懸掛裝置以便將該 裝置固定或懸掛在機器的表面上或在機器的內部,或把該裝置掛在一鏈條上。
下面通過附圖對本發明進行描述其中:
圖1是根據本發明的裝置外殼折卸后典型實施例的頂視圖;
圖2是圖1所示裝置的縱剖視圖;
圖3是粗略的示意圖,它表明圖1所示幾個裝置是如何裝在典型的屏幕顯示器上的。
圖4大略地描述本發明的第二種典型實施例。
參看圖1和圖2,它描繪了本發明裝置的典型實施例。圖1表示外殼折卸后的裝置。在一非金屬容器1中,例如在一直徑約60mm的聚苯乙烯盒中。放置著一互相作用的組件,它包含互相間隔的兩個部分永久磁鐵2和由碳或天然或人造石墨構成的一桿3。這兩部分具有例如20mm的長度。它們適應于放在盒1的底部所設置的凹槽內。如圖2所示,外殼4是密封地配裝在盒的上側。這兩部分2和3相互間隔而使碳或石墨桿3處于由磁鐵產生的磁力線內。許多同樣相互作用的組件也能放在相同的容器內。
作為實例,永久磁鐵2由混合物構成,它在市場上是以無碳鋁鎳鈷磁鐵Ⅲ(AlcomaxⅢ)商名銷售的,按重量計具有如下成分:8.1%鋁,13.5%鎳,24%鈷,2.5%銅,0.5%鈮和51.4%鐵。磁鐵的磁化強度適應于設備并能在500至3300高斯范圍內進行選擇。桿3例如由標號為ELLOR9的石墨組成,它是細粒狀的各向同性的純石墨,在燃燒時最多產生0.1%灰,此純石墨的比重為1.8g/cm,電阻率為1500μΩcm。這部分可埋置在入一樹脂混合物中。
根據本發明所述的裝置,它有一固定設施,例如一在容器的底部的一自身附著的設施5,而使該裝置安置在放射電磁射線的機器或儀器上面。這種裝置的數量,較可取的是或其內部在機器或設備上的裝置數至少為3套。有害射線源,例如包括有陰極射線屏幕的裝置(電視機,文字處理機的監視器、個人用計算機顯示器),和機動車。圖3展示一陰極射線屏幕的簡單示意圖。在這一屏幕上,三套裝置被放置在三角形的三個頂點上,如下所述:一個在屏幕頂部,另外兩個接近屏幕底部。
在試驗期間,申請人注意到:多虧根據本發明的裝置,帶陰極射線屏幕的電子儀器的操作者可經常地且充分地使用這儀器而不會重現通常在這種儀器上工作帶來的疾病和生理失調。
不需要對申請人觀察到的現象作出科學的解釋,申請人就假設沒在如上所述并按本發明所設置的裝置中,碳或石墨通過磁場而活化,并起過量輻射的接受器作用,以改變處于電磁場中操作電子設備的人員周圍電磁場,從而平衡了有害射線,而使周圍射線對這些操作者不發生生理失調。
使用根據本發明提供的裝置不局限在用陰極射線屏幕的設備,還包括所有家用電器(如微波爐)、計算器、機動車等等。如設備較大時,最好使用多于三個的裝置而且是分布在設備的整個表面上。
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