[其他]燒成帶窯面溫差小的立窯窯體結(jié)構(gòu)無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 88200631 | 申請日: | 1988-01-18 |
| 公開(公告)號: | CN88200631U | 公開(公告)日: | 1988-08-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉順妮;林宗壽 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢工業(yè)大學 |
| 主分類號: | F27B1/10 | 分類號: | F27B1/10 |
| 代理公司: | 湖北省專利事務所 | 代理人: | 盛亞仙 |
| 地址: | 湖北省武*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 燒成 帶窯面 溫差 立窯窯體 結(jié)構(gòu) | ||
1、一種立窯窯體結(jié)構(gòu),其特征在于在立窯窯體燒成帶和燒成帶以上部位,位于耐火磚層外,增加一層保溫磚層。
2、根據(jù)權(quán)利要求1所述窯體結(jié)構(gòu),其特征在于所述的保溫磚層是硅藻土保溫磚或高鋁泡沫磚。
3、根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的窯體結(jié)構(gòu),其特征在于所述的保溫磚層厚度50-500毫米。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于武漢工業(yè)大學,未經(jīng)武漢工業(yè)大學許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://m.szxzyx.cn/pat/books/88200631/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種改進的輥底爐增強耐火材料爐輥
- 下一篇:可分格爆光的照相、翻拍機





