[其他]電解槽及其工作方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 101985000008119 | 申請(qǐng)日: | 1985-11-04 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN1003245B | 公開(kāi)(公告)日: | 1989-02-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 理查德·尼爾·比瓦 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 陶氏化學(xué)公司 |
| 主分類號(hào): | 分類號(hào): | ||
| 代理公司: | 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利代理部 | 代理人: | 余剛 |
| 地址: | 美國(guó)密執(zhí)*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | 本文提出一種電解槽,它包括一個(gè)電解槽框架,其中至少包括兩個(gè)用薄膜使其相互隔離的電極室。在電解槽工作期間,至少一個(gè)所提供的電極區(qū)設(shè)有至少一個(gè)容納一部分薄膜的空隙。在電解槽中保持一個(gè)電極室中的壓力高于另一個(gè)電極室的壓力,從而使薄膜被壓向容納薄膜的空隙,而消除了薄膜中的任何皺紋。 | ||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電解槽 及其 工作 方法 | ||
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于陶氏化學(xué)公司,未經(jīng)陶氏化學(xué)公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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