[其他]涂鍍層厚度動態測量方法和裝置在審
| 申請號: | 101987000003367 | 申請日: | 1987-05-13 |
| 公開(公告)號: | CN1005592B | 公開(公告)日: | 1989-10-25 |
| 發明(設計)人: | 邱安生 | 申請(專利權)人: | 本溪市無線電九廠 |
| 主分類號: | 分類號: | ||
| 代理公司: | 電子工業部專利服務中心 | 代理人: | 崔雪花;邱應鳳 |
| 地址: | 遼寧本溪市*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | 本發明涉及用磁敏感原理測量各種涂、鍍層厚度,主要由磁性傳感件、激磁電源和測量放大器組成,可以在涂鍍過程中測量出單層、多層、磁性、非磁性涂鍍層厚度。本發明利用磁性材料的表面應力效應,即磁導率隨著涂鍍層增厚、表面收縮應力增加而出現有規律的下降。該過程是一個彈性可逆過程,隨著涂鍍層厚度減薄、應力減小、磁導率將恢復原值。本發明同時可測量出涂鍍過程中基體所受的應力及其變化速度,監測涂鍍層腐蝕過程。 | ||
| 搜索關鍵詞: | 鍍層 厚度 動態 測量方法 裝置 | ||
【主權項】:
暫無信息
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