[其他]濺射太陽能選擇性吸收涂層及制造方法無效
| 申請號： | 85100142 | 申請日： | 1985-04-01 |
| 公開（公告）號： | CN85100142B | 公開（公告）日： | 1987-07-22 |
| 發明（設計）人： | 殷志強 | 申請（專利權）人： | 清華大學 |
| 主分類號： | F24J2/48 | 分類號： | F24J2/48;C23C14/34 |
| 代理公司： | 清華大學專利事務所 | 代理人： | 胡蘭芝 |
| 地址： | 北京市海*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | 濺射太陽能選擇性吸收涂層，應用于太陽能集熱器。采用單個圓柱(或平板)鋁陰極，于氬氣中濺射鋁膜為底層，先后于氬-氮(或氬-一氧化碳)混合氣體與純氮(純一氧化碳)中反應濺射成份漸變的鋁-氮(或鋁-碳-氧)復合吸收材料。涂層的太陽吸收率α≈0.93，發射率ε≈0.06(100℃)。本發明使濺射系統結構簡化，濺射效率提高。新涂層放氣量少，制造中真空烘烤溫度可降至400～450℃；縮短了生產周期，降低能耗，可允許用軟化點低的玻璃。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 濺射 太陽能 選擇性 吸收 涂層 制造 方法 | ||
【主權項】：
1.一種濺射太陽能選擇性吸收涂層，其特征是以沉積的鋁膜為底層，以沉積的鋁-氮(或鋁-碳-氧)復合成分為吸收材料層，該吸收材料層的成分是漸變的。
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