[其他]高反差正性光致抗蝕劑顯影的方法無效
| 申請號： | 85107347 | 申請日： | 1985-09-30 |
| 公開（公告）號： | CN85107347A | 公開（公告）日： | 1986-08-20 |
| 發明（設計）人： | 詹姆斯·馬丁·劉易斯 | 申請（專利權）人： | 阿蘭特公司 |
| 主分類號： | G03C5/24 | 分類號： | G03C5/24 |
| 代理公司： | 上海專利事務所 | 代理人： | 張恒康 |
| 地址： | 美國新澤西州07960*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | 正性光致抗蝕劑堿性溶液兩步顯影方法提供使光致抗蝕劑產生高反差。所公開的顯影液包括氫氧化鉀、碳氮化合物或羧化物表面活性劑那樣的堿基溶液。在光致抗蝕劑的反差上碳氮化合物或羧化物的表面活性劑的加入可產生意想不到的增加，在對已曝光的抗蝕劑膜的有效顯影中雙浸方法可加以使用，在浴的使用期中光致抗蝕劑的反差和感光度將基本保持不變。高反差光致抗蝕劑提供線寬控制，并且進一步改進光致抗蝕劑圖形加工的一致性。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 反差 正性光致抗蝕劑 顯影 方法 | ||
【主權項】：
1、一種對正性輻照敏感的包括有苯醌二疊氮基磺酸衍生物和堿可溶性樹脂組成的抗蝕劑膜，這種抗蝕劑膜巳涂布在襯底上，并經輻照曝光后，為形成一表面凹凸圖形的顯影法，該顯影法包括：(a)使曝光抗蝕劑膜同含有以顯影液的重量計0.001%～1.0%的表面活性劑的含水堿性預處理溶液接觸，其中所說的表面活性劑是從碳氟化合物或羧化物表面活性劑和足以提供堿度的基礎成分組成的基團中選取的。(b)從工序(a)得到的預處理薄膜經水的清洗。(c)從工序(b)得到的巳預處理抗蝕劑膜同PH值至少為9和至少含有以顯影液重量計0.0001%的表面活性劑的含水顯影溶液接觸，其中所說的表面活性劑是由碳氟化合物或羧化合物的表面活性劑組成的基團中選取的，以便溶解所說抗蝕劑膜的曝光部分。
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