[其他]用于真空沉積鍍層的方法和裝置無效
| 申請號： | 85107585 | 申請日： | 1985-10-14 |
| 公開（公告）號： | CN85107585A | 公開（公告）日： | 1987-05-06 |
| 發明（設計）人： | 古川平三郎;和氣完治;下里省夫;柳謙一;加藤光雄;和田哲義;筑地憲夫;愛甲琢哉;橘高敏晴;中西康二 | 申請（專利權）人： | 三菱重工業株式會社;日新制鋼株式會社 |
| 主分類號： | C23C14/56 | 分類號： | C23C14/56 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利代理部 | 代理人： | 姚珊 |
| 地址： | 日本東京*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | 一種用于真空沉積鍍層的方法和裝置，包括使用一種真空沉積鍍層裝置。該裝置具有分別設在真空沉積鍍層室前面和后面的兩個真空密封裝置及兩個不活潑氣體置換室，用于將不活潑氣體從兩個真空密封裝置的真空室循環到二者的大氣壓力室；及用于從不活潑氣體中分離出水、油和氧的不活潑氣體循環/純化裝置。上述方法和裝置的特點為分別將純化后不活潑氣體中氧和氫的濃度調整為60ppm或更少和0.2～2.0％，將不活潑氣體的露點調整為-50℃或更低。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 用于 真空 沉積 鍍層 方法 裝置 | ||
【主權項】：
1、一種用于真空沉積鍍層的方法，包括使用真空沉積鍍層的裝置，該裝置包括：設在真空沉積鍍層室前面的一入口側真空密封裝置，設在上述入口側真空密封裝置和一退火爐之間的一入口側不活潑氣體置換室，設在上述真空沉積鍍層室后面的一出口側真空密封裝置，設在上述出口側真空密封裝置與大氣之間的一出口側不活潑氣體置換室，用于使不活潑氣體從上述兩個真空密封裝置的真空室循環到上述兩個真空密封裝置的大氣壓力室、及用于從不活潑氣體中分離出水、油和氧的不活潑氣體循環/純化裝置；上述用于真空沉積鍍層的方法，其特征為，將純化后不活潑氣體中氧的濃度調整為60ppm或更低，氫的濃度調整為0.2～2.0%，將不活潑氣體的露點調整為-50℃或更低。
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