[其他]濕法腐蝕裝置無效

申請號：	85203849	申請日：	1985-09-17
公開（公告）號：	CN85203849U	公開（公告）日：	1986-05-21
發明（設計）人：	劉振芳;蔡福興	申請（專利權）人：	航天工業部七七一研究所
主分類號：	H01L21/02	分類號：	H01L21/02;H01L21/306;H01L21/456
代理公司：	航天工業部專利事務所	代理人：	管潔,容敦璋
地址：	陜西省臨潼***	國省代碼：	陜西;61
權利要求書：	查看更多	說明書：	查看更多
摘要：	一種濕法化學腐蝕裝置，用以腐蝕介質薄膜，特別適用于半導體器件生產工藝中Si3N4介質膜的濕法腐蝕，可耐200℃高溫。在腐蝕容器[2]上的蓋子[1]內側布滿回形冷卻管[3]，當腐蝕液加熱時，管子接通冷卻水，這樣因受熱產生的腐蝕液蒸汽在管子上遇冷而凝聚下來，滴回腐蝕液中，從而能很好地保持腐蝕液的組分，不改變腐蝕速率，保證腐蝕質量。
搜索關鍵詞：	濕法腐蝕裝置
鉆瓜網技術展會專利詞庫專利權人專利榜在售專利公布日期熱門專利

【主權項】：

1.一種由腐蝕容器〔2〕、容器蓋〔1〕構成的濕法腐蝕裝置。本實用新型的特征在于容器蓋子內側有冷卻管〔3〕，粘結或燒結在容器蓋子上，冷卻管的兩頭通過蓋子的兩個相對或相鄰的側壁和外面的冷卻水相通。容器內裝有可供測溫的裝置〔4〕，冷卻管進、出口和蓋子的交接處應沒有縫隙，蓋子和容器的接合面〔a〕應嚴密吻合。

下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。

免登錄下載普通用戶下載升級VIP會員，免費下載

該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于航天工業部七七一研究所，未經航天工業部七七一研究所許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】

本文鏈接：http://m.szxzyx.cn/patent/85203849/，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。