[其他]場致發(fā)射掃描俄歇電子顯微鏡無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 86100036 | 申請日： | 1986-01-03 |
| 公開（公告）號： | CN86100036A | 公開（公告）日： | 1986-07-23 |
| 發(fā)明（設計）人： | 約翰尼斯·喬治·貝德諾爾茨;詹姆斯·卡齊密爾茨·吉姆齊夫斯基;布魯諾·賴爾 | 申請（專利權）人： | 國際商業(yè)機器公司 |
| 主分類號： | H01J37/285 | 分類號： | H01J37/285;H01J37/28 |
| 代理公司： | 上海專利事務所 | 代理人： | 顏承根 |
| 地址： | 美國紐約10*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | 俄歇電子顯微鏡裝有場致發(fā)射尖頭〔10〕，維持在樣品〔7〕的表面上相距一基本恒定的距離處。尖頭〔10〕可由尖端半徑為～50nm的鎢(100)觸須所組成，其中作距離的數(shù)量級為1mm。從樣品〔7〕表面發(fā)射的俄歇電子由電子能量分析器〔11〕收集以便進行常規(guī)處理。在尖頭〔10〕及樣品〔7〕之間的相互掃描移位由XYZ驅動模件〔6〕完成，它還負責調整尖頭〔10〕的工作距離。整個顯微鏡裝置裝在振蕩阻尼系統(tǒng)〔4，5〕上，且如有需要，可用合適的法蘭盤投進真空系統(tǒng)。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 發(fā)射 掃描 電子顯微鏡 | ||
【主權項】：
1、場致發(fā)射掃描俄歇電子顯微鏡包括場致發(fā)射源，樣品支架，使場致發(fā)射源及樣品相互移位的掃描裝置，帶有關電子數(shù)據(jù)處理電路的電子探測器及顯示和/或記錄結果用的裝置，其特征在于場致發(fā)射源包括一有尖銳尖端且尖端半徑為≤100nm的尖頭，上述尖頭保持在距上述樣品表面為≤1的基本上恒定的距離上及在上述尖頭與上述樣品之間保持電位差。
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