[其他]利用磁場的微波增強型化學氣相淀積系統和方法無效

申請號：	86106620	申請日：	1986-10-14
公開（公告）號：	CN86106620A	公開（公告）日：	1987-07-08
發明（設計）人：	山崎舜平	申請（專利權）人：	株式會社半導體能源研究所
主分類號：	C23C16/50	分類號：	C23C16/50
代理公司：	中國專利代理有限公司	代理人：	吳增勇,吳秉芬
地址：	日本神奈***	國省代碼：	暫無信息
權利要求書：	查看更多	說明書：	查看更多
摘要：	本發明展示一種改進的化學氣相淀積法；在這種方法中，回旋共振與光或等離子體化學氣相淀積法相配合，以高的淀積速度淀積具有高性能的薄膜。高淀積速度歸因于回旋共振，而高質量性能歸因于兩種化學氣相淀積法(CVDs)的組合。
搜索關鍵詞：	利用磁場微波增強化學氣相淀積系統方法
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【主權項】：

1、微波增強型CVD(化學汽相淀積)系統，特征在于包括：-一個CVD裝置，其由一個反應室、用于將生產氣體引入所述反應室的裝置、用于提供能量的裝置(這種能量是為在反應室內實現淀積反應所必需的)及用于抽空所述反應室的裝置所組成；和-一個生產氣體增強裝置，它包括一個增強室、用于對所述增強室的內部提供磁場的裝置，用于將微波發送到所述增強室內的裝置和用于將生產氣體引入所述增強室的裝置，所述反應室和所述增強室處于彼此保持聯系中。

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