[其他]可曝光成象的焊接掩膜涂料無效
| 申請號: | 87107321 | 申請日: | 1987-12-08 |
| 公開(公告)號: | CN87107321A | 公開(公告)日: | 1988-06-22 |
| 發明(設計)人: | 桑格維特·賽特哈查亞農 | 申請(專利權)人: | 阿姆斯特朗電界工業公司 |
| 主分類號: | G03C1/68 | 分類號: | G03C1/68;G03F7/26 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利代理部 | 代理人: | 任宗華,林柏楠 |
| 地址: | 美國賓夕*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | 介紹了一種紫外線光敏涂料組合物,它是一種由二異氰酸酯、羥烷基(二或三)(甲基)丙烯酯與羧酸多羥基化合物的縮合反應制備的聚合物。也可選擇使用一種多羥基化合物和/或一種二元羧酸多羥基化合物作為反應劑。由此制備的涂料聚合物也可與粘合劑和交聯劑相混合。 | ||
| 搜索關鍵詞: | 曝光 成象 焊接 涂料 | ||
【主權項】:
1、一種可光成象的涂料組合物,其特征在于:該組合物含有一種選自羧酸化氨基甲酸酯二甲基丙烯酸酯、羧酸化氨基甲酸酯二丙烯酸酯、羧酸化氨基甲酸酯三丙烯酸酯和羧酸化氨基甲酸酯三甲基丙烯酸酯的聚合物;通過使含有成分(a)、(b)和(c)的反應混合物縮合制備該紫外線光敏聚合物,成分(a)是一種帶有6至8個碳原子的二異氰酸酯,成分(b)是通式為[OH]x-R6-COOH的羧酸多羥基化合物,式中X可以是2至5的整數,R6是直鏈或支化,飽和、不飽和或芳香類帶2至29個碳原子的烴基,成分(c)選自二丙烯酸羥烷酯、二甲基丙烯酸羥烷酯、三丙烯酸羥烷酯和三甲基丙烯酸羥烷酯,其中每個烷基帶有2至28個碳原子;成份(a)的用量為約反應混合物總重量的30%至約80%;成份(b)的用量為約反應混合物總重量的5%至約45%而使每克反應混合物總量的酸量至少為約0.3毫克當量;成份(c)的用量為約反應混合物總重量的5%至約50%而使每克反應混合物總量的丙烯酸酯量至少為0.5毫克當量。
下載完整專利技術內容需要扣除積分,VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于阿姆斯特朗電界工業公司,未經阿姆斯特朗電界工業公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://m.szxzyx.cn/patent/87107321/,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





