[其他]蒸鍍用的氧化釔組成物及反射防止膜的制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 87107819 | 申請日： | 1987-11-12 |
| 公開（公告）號： | CN87107819A | 公開（公告）日： | 1988-08-17 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 坪井俊吾 | 申請（專利權(quán)）人： | 三菱電機株式會社 |
| 主分類號： | C23C14/08 | 分類號： | C23C14/08 |
| 代理公司： | 上海專利事務(wù)所 | 代理人： | 王麗川 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | 本發(fā)明涉及一種含有氧化鈦和氧化鋯的蒸鍍用的氧化釔組成物，及用這種組成物作為蒸鍍材料制造用于如硅或GaAs那樣的III-V族化合物半導(dǎo)體用的反射防止膜，該反射防止膜能使被蒸鍍物上的表面反射率幾乎為零。而且，由于時效變化小，動作時間可以延長。 | ||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 蒸鍍用 氧化釔 組成 反射 防止 制造 方法 | ||
【主權(quán)項】：
1、一種蒸鍍用的氧化釔組成物，其特征在于含有氧化鈦和氧化鋯。
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C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
