【主權(quán)項(xiàng)】：

1、在真空高溫狀態(tài)下對工件(10)進(jìn)行等離子體滲金屬的技術(shù)和設(shè)備：①其技術(shù)特征是采用陰極電弧蒸發(fā)器(14)作離子滲金屬時(shí)的蒸發(fā)源、離化源和加熱源，利用低氣壓弧光放電產(chǎn)生高密度金屬離子流，同時(shí)對工件(10)提高負(fù)偏壓，提高金屬離子到達(dá)工件(10)的能量，以此對被處理工件(10)表面形成滲層的技術(shù)；②其設(shè)備特征是裝有一個(gè)或多個(gè)陰極電弧蒸發(fā)器(14)，并配置適量的支架(1)、機(jī)械泵(2)、擴(kuò)散泵(3)、底盤(4)、真空室(5)、觀察窗(6)、負(fù)偏壓電源(7)、陰極夾具(8)、絕緣密封件(9)(13)、進(jìn)氣裝置(11)、源極靶材(12)、弧源電源(15)、引弧電極(16)等裝置的組合形成的設(shè)備。