[其他]垂直磁性記錄介質

在審

• 申請號: 101985000003512
• 申請日: 1985-05-02
• 公開（公告）號: CN85103512B
• 公開（公告）日: 1988-12-21
• 發明（設計）人: 二本正昭;本多幸雄;上坂保太郎;吉田和悅
• 申請（專利權）人: 株式會社日立制作所;日立精機株式會社
• 代理公司: 中國專利代理有限公司
• 代理人: 吳秉芬

1、一種垂直磁性記錄介質，它包括一個襯底、一個從屬層和一個由鈷基合金制成且沉積在所述從屬層的垂直磁性膜，其特征在于，所述從屬層由主要成分為選自硅和鍺組成的元素組/至少一種元素的材料制成，且所述從屬層系沉積在所述襯底上。

2、按照權利要求1所述的垂直磁性記錄介質，其特征在于，所述從屬層的厚度取至少100A到至多1μm。

3、按照權利要求2所述的垂直磁性記錄介質，其特征在于，所述從屬層的厚度至少150A至多1000A。

4、一種垂直磁性記錄介質，它包括一個襯底、一個從屬層和一個由鈷基合金制成且沉積在所述從屬層的垂直磁性膜，其特征在于，所述從屬層由這樣一種材料制成，該材料的主要成分為選自硅和鍺組成的元素組的至少一種元素，且該材料含有從錫、鈦、鋯和硼組成的元素組選出的至少一種元素，該元素的含量系在這樣的一個范圍，使所述從屬層的晶體結構中不致出現金剛石結構和非晶形結構以外的任何結構，且所述從屬層系沉積在所述襯底上。

5、按照權利要求4的垂直磁性記錄介質，其特征在于，所述從屬層的厚度至少為100埃，最多為1微米。

6、按照權利要求4的垂直磁性記錄介質，其特征在于，所述從屬層的厚度至少為150埃，至多為1000埃。

7、按照權利要求1的垂直磁性記錄介質，其特征在于，至少在所述襯底上生成所述從屬層的那個表面是由軟磁材料所制成，該軟磁層是在鈷基合金膜的沉積工藝之前形成的。

8、按照權利要求2的垂直磁性記錄介質，其特征在于，至少在所述襯底上生成所述從屬層的那個表面是由軟磁材料所制成，該軟磁層是在鈷基合金膜的沉積工藝之前形成的。

9、按照權利要求3.的垂直磁性記錄介質，其特征在于，至少在所述襯底上生成所述從屬層的那個表面是由軟磁材料所制成，該軟磁層是在鈷基合金膜的沉積工藝之前形成的。