[其他]垂直磁性記錄介質

在審

• 申請號: 101985000003512
• 申請日: 1985-05-02
• 公開（公告）號: CN85103512B
• 公開（公告）日: 1988-12-21
• 發明（設計）人: 二本正昭;本多幸雄;上坂保太郎;吉田和悅
• 申請（專利權）人: 株式會社日立制作所;日立精機株式會社
• 代理公司: 中國專利代理有限公司
• 代理人: 吳秉芬

所公開的材料是有關垂直磁性記錄介質的。其中從屬層是由硅及／或鍺作為主要成分的材料所組成。該從屬層沉積在一襯底上而由鈷基合金所做成的垂直磁膜則沉積在該從屬層上。這種垂直磁性記錄介質其垂直磁性膜的ｅ軸定向度已經得到增強，且當襯底為非金屬材料時。垂直磁性膜及襯底之間的結合強度也得到了加強。

本發明是關于一種適用于垂直磁性記錄系統的磁性記錄介質。

垂直磁性記錄系統的記錄方向是垂直于記錄介質膜平面的。它是一種適合于增強記錄密度的系統，因為在高密度記錄情況下，每位內的去磁磁場是低的。有一系列鈷基合金薄膜，如鈷-鉻（CO-Cr）、鈷-釩（CO-V）、鈷-鉬（CO-MO）、鈷-鎢（CO-W）、鈷-錸（CO-Re）、鈷-氧（CO-O）、鈷-鉻-銠（CO-Cr-Rh）、鈷-鉻-釕（CO-Cr-Ru）及鈷-鎳-氧（CO-Ni-O）膜，都可用作為此目的的磁性記錄介質。這些鈷基合金中的任何一種都具有一個六方晶系密集（h.c.p.）的晶體結構，并且這種合金具有的優點是構成薄膜的細小晶體顆粒是易于在c軸定向的。為了增強磁性記錄特性，薄膜的c軸定向度需要提高。

目前使用的垂直磁性記錄介質是這樣的，鈷基合金膜是直接粘結在非磁性襯底上或者還通過一個坡莫合金（一個呈高導磁率的鎳-鐵合金其主要成分是鎳）的軟磁薄膜或者其它類似的材料。非磁性襯底可以采用諸如聚酰亞胺塑料膜、聚乙烯對苯二酸鹽塑料膜或類似的材料以及鋁片或玻璃片等來做。在這類襯底上形成鈷基合金膜時，這種鈷基合金膜對襯底必須具有良好的附著力，并具有高度的c軸定向度。然而，當鈷基合金膜是用蒸發的方法直接粘結在塑料膜或玻璃板上時，存在著這樣一些問題：結合強度不夠，使鈷基合金膜容易從襯底剝落下來，并且其c軸定向特性隨襯底表面清潔度的不同而變化。此外，當鈷基合金膜是粘結在鋁或其他類似的金屬襯底上或粘結在坡莫合金軟磁金屬膜或其他類似的材料上時，基底金屬顆粒的晶體定向性將對粘結在其上的鈷基合金的c軸定向度起到一個有害的影響。例如，鋁及坡莫合金都具有面心立方晶格（f.c.c.）結構，并且已知當面心立方結構的（111）平面越平行于襯底平面時，粘結在其上的鈷基合金的c軸定向度也就更好。然而，由于實際襯底的（111）平面或軟磁金屬薄膜對襯底平面的平行度并不是很好，這就存在這樣一個問題，鈷基合金的c軸定向度將比把合金膜粘結在塑料或玻璃襯底上的情況更壞。再者，正如官方公報所載日本公開專利申請（№56-70618）中所揭示的：當鈷-鉻合金膜在襯底上形成時，如果把具有六方晶系密集晶格（以下以h.c.p.縮寫）的結構材料的c軸定向為垂直于襯底表面而在襯底表面形成鈷-鉻合金膜時，則其c軸定向度會得到改善。然而，在這種情況下，由于h.c.p.結構作基底材料的晶體定向性也是有問題的，不利的是鈷基合金的特性受基底膜層晶體定向性的控制。

引用以下的參考資料來表示現有技術狀況;ⅰ）登載日本公開專利申請（№56-70618）的公報ⅱ）登載日本公告專利申請（№58-91）的公報。

本發明的目的是解決先有技術工藝方面的困難，并提供一種垂直磁性記錄介質。根據這種介質，當采用塑料、玻璃或類似的非金屬襯底與鈷基合金膜粘結時，除其結合強度可得到加強外，鈷基合金膜的c軸定向度也可以得到加強，而且當把鈷基合金膜粘結在鋁或類似的金屬襯底或軟磁金屬膜上時，合金膜的c軸定向度得到了改善。

為了實現此目的，本發明的垂直磁性記錄介質將包含一個襯底，一個從屬層，這個從屬層的材料的主要成分中至少含有一種選自組成硅鍺族的元素，從屬層被沉積在該襯底上，并且一垂直磁膜（即，具有垂直磁性的各向異性的膜），沉積在該從屬層上。