[其他]薄膜磁頭及其制造方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 101987000000502
• 申請(qǐng)日: 1987-01-27
• 公開（公告）號(hào): CN1004035B
• 公開（公告）日: 1989-04-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 今中律;高木政幸;戶川衛(wèi)星;藤治信;長(zhǎng)池完訓(xùn);大浦正樹;鈴木三郎;小林哲夫;鍬俊一郎
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社日立制作所
• 代理公司: 中國(guó)專利代理有限公司
• 代理人: 曹濟(jì)洪;董江雄

1、一種薄膜磁頭，包括：

基底（1）;

形成于所述基底上的第一磁層（30）;

形成于所述第一磁層上的非磁性縫隙層（4）;

形成于所述縫隙層上的第一絕緣層（5）;

形成于所述第一絕緣層上的螺旋形繞組的一層第一導(dǎo)體層（6）;

形成于所述第一導(dǎo)體層上的第二絕緣層（7）;

形成于所述第二絕緣層上的螺旋形繞組的一層第二導(dǎo)體層（8），所述第二導(dǎo)體層與所述第一導(dǎo)體層電氣連接以構(gòu)成一個(gè)兩層導(dǎo)體線圈;

形成于所述第二導(dǎo)體層上的第三絕緣層（92）;以及

形成于所述第三絕緣層上和所述縫隙層的一部分上且與所述第一磁層相接觸以構(gòu)成一磁路的第二磁層（101）;

其特征在于，

在由所述縫隙（4）和所述第二磁層（101）所限定的空間內(nèi)的所述第一和第二導(dǎo)體層（6，8）的相對(duì)配置是樣的，使得在基本上與基底表面相平行的基準(zhǔn)面和取在垂直于基底表面的平面上的連接第一和第二導(dǎo)體層（6，8）的橫截面的表面邊緣（6c，8c）的連線之間所構(gòu)成的角（θ₁），基本上等于在所述基準(zhǔn)面和所述第二磁層（101）的側(cè)斜面之間所構(gòu)成的角（θ₂），且

各所述角基本上是在30°至45°的范圍內(nèi)。

2、根據(jù)權(quán)利要求1的薄膜磁頭，其特征在于，在所述空間內(nèi)的所述第一和第二導(dǎo)體層（6，8）的相對(duì)配置進(jìn)一步是這樣的，使得取在垂直于所述基底表面的所述平面上的所述第二導(dǎo)體層（8）的各繞組的橫截面的中部，基本上位于取在垂直于所述基底表面的所述平面上的所述第一導(dǎo)體層（6）接近最下面的兩繞組的橫截面之間的中部之上。

3、一種制造薄膜磁頭的方法，包括下列步驟：

在基底上形成第一磁層;

在所述第一磁層上形成非磁性縫隙層;

在所述縫隙層上形成第一絕緣層;

在所述第一絕緣層上形成螺旋形繞組的一層第一導(dǎo)體層;

在所述第一導(dǎo)體層上形成第二絕緣層;

在所述第二絕緣層上形成螺旋形繞組的一層第二導(dǎo)體層，所述第二導(dǎo)體層與所述第一導(dǎo)體層電氣連接以構(gòu)成一個(gè)兩層導(dǎo)體線圈;

在所述第二導(dǎo)體層上形成第三絕緣層;

所述第一、第二和第三絕緣層上加圖案;

將所述縫隙層腐蝕到預(yù)定的圖案;

在所述加圖案的第三絕緣層上和所述縫隙層的一部分上，以下述這樣的方式形成一第二磁層，即所述腐蝕過的縫隙層的所述部分，是被夾在所述第一和第二磁層之間以構(gòu)成一所述磁頭的縫隙，所述第一和第二磁層互相接觸以構(gòu)成一由所述導(dǎo)體線圈所產(chǎn)生的磁力線的磁路;以及

研磨最后得到的結(jié)構(gòu)的側(cè)面，該結(jié)構(gòu)包括夾在所述第一和第二磁層之間的所述腐蝕過的縫隙層的所述部分;

其特征在于，

所述加圖案的步驟包括同時(shí)腐蝕所述第一、第二和第三絕緣層（5，7，91）;