[其他]液氮溫區(qū)超導(dǎo)薄膜及其制備方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 101987000002739
• 申請(qǐng)日: 1987-04-15
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN1004951B
• 公開(kāi)（公告）日: 1989-08-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 趙柏儒;王會(huì)生;陸勇;史引煥;趙玉英;李林
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院物理研究所
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1、一種超導(dǎo)薄膜的制備方法，其特征是壓鑄成型高溫?zé)Y(jié)的化合物靶，直流（或射頻）磁控充氬濺射和熱處理工藝過(guò)程，并制成液氮溫區(qū)超導(dǎo)薄膜。

2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征是化合物靶按A_xB_5-xCu₅O_5（3-y）體系或按A_xB_1-xCuO_3-y體系的四元氧化物制成，其中A＝Ca，Sr，Ba，B＝Sc，Y，La，X＝0.5-0.6，Y-0.5-1，后者體系X＝0.3-0.7，選用市售純度的原料混合研磨，在700-850℃預(yù)燒3-8小時(shí)，取壓強(qiáng)為1-2噸/cm²，壓鑄成型，再經(jīng)850-1000℃燒結(jié)10-15小時(shí)，化合物靶呈黑色，尺寸為直徑60-65毫米，厚度為3-5毫米。

3、根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征是濺射條件：

（1）濺射室的背景真空度為1×10^-5乇，

（2）Ar氣氛壓強(qiáng)為（2-8）×10^-2乇，可附加充氧，調(diào)節(jié)膜的氧含量，

（3）基片材料為白寶石（Al₂O₃）或石英片或氧化鋯，基片加溫范圍200-600℃，

（4）直流濺射電壓為200-500V或射頻濺射電壓為1.5-2KV，

（5）濺射時(shí)間為0.5-2小時(shí)。

4、根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征是在700-900℃溫度范圍內(nèi)對(duì)膜進(jìn)行熱處理。

5、根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法所制備的薄膜，其特征在于用該方法所制備的薄膜厚度為0.5-1μm，并在液氮溫區(qū)呈現(xiàn)超導(dǎo)。