[其他]帶無機物層離子膜的制備及其電解應(yīng)用無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 85102088 | 申請日： | 1985-04-01 |
| 公開（公告）號： | CN85102088B | 公開（公告）日： | 1988-12-07 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 李家麟;王慧中;寧遠謀 | 申請（專利權(quán)）人： | 華中師范學(xué)院 |
| 主分類號： | C25B13/00 | 分類號： | C25B13/00;C25B1/46 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 中國湖*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 無機物 離子 制備 及其 電解 應(yīng)用 | ||
【權(quán)利要求書】：
1、一種表面帶有無機物層的、適用于“零極距”電解工藝的離子交換膜的制備方法，其特征在于采用電解沉積技術(shù)，其步驟為：將一種耐氧化的含氟樹脂離子交換膜夾入電解沉積槽，該膜將電解沉積槽分為陽極室和陰極室，在陽極室插入陽極并注入陽極液，在陰極室插入陰極并注入陰極液，在電解液（陽極液和/或陰極液）中存在一種可絡(luò)合被沉積金屬離子的絡(luò)合劑，被沉積的元素為鈦、鋯、銻、鎢和釷中的任一種，它可以以陽離子、含氧陰離子、絡(luò)離子（荷正電或負電）或膠體中的任一種形式存在于電解液中，電解沉積過程的電流密度為0.05-100A/dm2，溫度為25°-95℃。
2、如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于被沉積元素主要沉積在離子交換膜的向陰極面上，當(dāng)膜被裝入“零極距”電槽時，該面與陰極相緊貼。
3、如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于電解沉積過程的電流密度為0.2-30A/dm2。
下載完整專利技術(shù)內(nèi)容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于華中師范學(xué)院，未經(jīng)華中師范學(xué)院許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://m.szxzyx.cn/pat/books/85102088/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
