[其他]同質(zhì)異構(gòu)三層微裂紋鍍鉻無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 85104141 | 申請日： | 1985-05-27 |
| 公開（公告）號： | CN85104141A | 公開（公告）日： | 1986-11-26 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 嚴(yán)欽元;余介;周君煜;周道友;游一太 | 申請（專利權(quán)）人： | 國營望江機器制造廠 |
| 主分類號： | C25D3/04 | 分類號： | C25D3/04;C25D5/14;C25D5/18;C25D5/34 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 四川省重慶市*** | 國省代碼： | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 同質(zhì) 三層 裂紋 鍍鉻 | ||
【權(quán)利要求書】：
1、本發(fā)明是屬于電鍍的方法，其特征是零件經(jīng)過前處理電化學(xué)拋光，再采用改進鍍液配方與添加劑及改變電化學(xué)工藝參數(shù)，對零件進行同槽過渡的電鍍。
2、根據(jù)權(quán)利要求第1條所述的方法，前處理電化學(xué)拋光的特征是采用磷酸、硫酸與硫脲衍生物的混合物，進行陽極電解。
3、根據(jù)權(quán)利要求第1條所述的方法，改進鍍液配方與添加劑的特征是降低鉻酐與硫酸濃度，加入“GB”型光亮平整劑。
4、根據(jù)權(quán)利要求第1條所述的方法，改變電化學(xué)工藝參數(shù)的特征是按照不同鍍層的顯微結(jié)構(gòu)及硬度將電流、溫度控制在35～100安培/分米245～80℃范圍內(nèi)。
5、根據(jù)權(quán)利要求的第1條所述的方法，同槽過渡電鍍的特征是在鉻酐80～450克/升，硫酸0.8～4.8克/升，混合光亮平整劑在2～10克/升的條件下，不換鍍槽一次性的電鍍出三層微裂紋鉻層。
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