[其他]同質(zhì)異構(gòu)三層微裂紋鍍鉻

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 85104141
• 申請(qǐng)日: 1985-05-27
• 公開（公告）號(hào): CN85104141A
• 公開（公告）日: 1986-11-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 嚴(yán)欽元;余介;周君煜;周道友;游一太
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 國(guó)營(yíng)望江機(jī)器制造廠
• 主分類號(hào): C25D3/04
• 分類號(hào): C25D3/04;C25D5/14;C25D5/18;C25D5/34
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

本發(fā)明是屬于電鍍的方法。

英國(guó)安美達(dá)化學(xué)公司1409059專利所公開的鍍鉻方法已成為普遍采用的方法。這種方法的缺點(diǎn)是鍍層結(jié)合力，防腐蝕能力和耐磨性均差，而且鍍層有脆性，其脫落的碎片或微粒經(jīng)常造成整個(gè)工作機(jī)構(gòu)出現(xiàn)故障，例如液壓機(jī)構(gòu)卡滯、燒蝕，影響整機(jī)的使用和壽命。

本發(fā)明的目的是給運(yùn)動(dòng)著的零件表面提供具有內(nèi)韌外堅(jiān)。“磨合”性優(yōu)良，并具有極好的防腐蝕能力、耐高溫、耐磨損和潤(rùn)滑性能優(yōu)良的鉻鍍層。

我們提供一種在金屬材料基體上鍍鉻的方法是采用改進(jìn)鍍液配方與改變電化學(xué)工藝參數(shù)等條件達(dá)到改變鍍層結(jié)構(gòu)來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)耐磨要求高，防高溫?zé)g等工件，如活柱、缸體、液壓元件等進(jìn)行特殊的快速同槽過(guò)渡的電鍍新方法。

根據(jù)本發(fā)明，我們提供一種在所有金屬材料基體上鍍鉻的工藝。

本發(fā)明的基礎(chǔ)工藝配方為：

鉻酐 CrO₃80～450克/升

硫酸 H₂SO₄0.8～4.8克/升

混合GB添加劑

（亞硫酸鹽、硼酸和氧化鎂等的混合物）????2～10.0克/升

電鍍工藝條件與參數(shù)

使用本發(fā)明電鍍的產(chǎn)品，鍍層外觀好。鍍層結(jié)晶致密、平整、光滑，零件光潔度可由鍍鉻前機(jī)加8提高到10，鍍層結(jié)合力好。經(jīng)過(guò)300℃加熱急冷，引伸試驗(yàn)，劇烈沖擊以及折斷試驗(yàn)均無(wú)剝落與起皮現(xiàn)象，特別是經(jīng)過(guò)2800℃以上瞬時(shí)高溫條件下工作，鍍層無(wú)燒蝕與龜裂現(xiàn)象。

鍍層抗腐蝕性能強(qiáng)，與基體結(jié)合的軟層在15微米時(shí)，孔隙度為零，中性鹽霧試驗(yàn)均優(yōu)于雙層鉻與青銅/套鉻工藝，達(dá)到七個(gè)周期。3%～5%氯化鈉鹽水浸泡，其抗蝕性能優(yōu)于常規(guī)工藝18小時(shí)以上。

環(huán)境暴曬試驗(yàn)，將活柱等零件懸掛在化學(xué)排氣塔下五年多，表面仍然光潔，無(wú)生銹與脫皮現(xiàn)象，而青銅/套鉻和雙層鉻工藝加工的零件，一年后就變色生銹。

鍍層韌性好，具有內(nèi)韌外堅(jiān)的特殊功能，基體顯微硬度300～400，軟鍍層400～600、過(guò)濾層600～800、功能層900～1200。

表層具有300～720條微裂紋/厘米²，有儲(chǔ)油功能，克服了干摩擦現(xiàn)象，儲(chǔ)油量為100毫克/米²左右;防燒蝕能力強(qiáng)，可經(jīng)受瞬時(shí)高溫沖刷、不脫層、不燒蝕。

本發(fā)明，鍍液穩(wěn)定、電鍍效率高。采用“GB”等作添加劑、可細(xì)化結(jié)晶、整平表面、降低邊緣效應(yīng)，金屬沉積速度較常規(guī)工藝提高50%以上。

本發(fā)明最重要的工業(yè)應(yīng)用之一是用于鍍覆要求耐磨損。防燒蝕的零件。使用本發(fā)明能使咬住和燒蝕減少到最低限度，同時(shí)大大地減少磨損，得到了在潮濕環(huán)境下抗化學(xué)氣體腐蝕的最佳性能。

本發(fā)明的最佳實(shí)例

掩護(hù)支架活柱、缸體電鍍

1、拋光工藝

磷酸 H₃SO₄50%

硫酸 H₂SO₄50%

硫脲衍生物????0.01克/升

溫度（℃）????15～50

陽(yáng)極（DK） 10～20安培/分米²

時(shí)間（分）????12～30

2、活化

鉻酐 CrO₃80～450克/升

硫酸 H₂SO₄0.8～4.8克/升

GB添加劑（鎂鹽等混合物）????3.5～8.8克/升

陰極（DK） 5～8安培/分米²

溫度（℃）????27～75

時(shí)間（分）????2～15

3、除膜

直接在活化液中進(jìn)行

陽(yáng)極（DK） 25～35安培/分米²

溫度（℃）????27～75

時(shí)間（分）????1～8

4、同槽過(guò)渡電鍍鉻