[其他]帶分立、可控衰減元件和狹縫光闌的狹縫X射線照相裝置無效
| 申請號： | 85106432 | 申請日： | 1985-08-27 |
| 公開（公告）號： | CN85106432A | 公開（公告）日： | 1987-03-18 |
| 發明（設計）人： | 雨果·夫拉斯布勞姆;西蒙·杜英克 | 申請（專利權）人： | 老代爾夫特光學工業有限公司 |
| 主分類號： | G03B42/02 | 分類號： | G03B42/02 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利代理部 | 代理人： | 王潔 |
| 地址： | 荷蘭代爾夫特*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 分立 可控 衰減 元件 狹縫 光闌 射線 照相 裝置 | ||
【權利要求書】：
1、一種狹縫X射線照相裝置，特征在于：該裝置包括與狹縫光闌共同工作的分立、可控衰減元件，每個衰減元件附加有阻尼裝置。
2、如權利要求1所述的裝置，特征在于每個可控衰減元件通過連接裝置而與裝有液體的圓筒中的活塞相連。
3、如權利要求1所述的裝置，特征在于每個可控衰減元件包括伸進裝有液體的容器中的葉片。
4、如權利要求3所述的裝置，特征在于葉片可被制成帶有皺紋。
5、如權利要求3所述的裝置，特征在于每個容器包括形成并列倉的隔離件，衰減元件的葉片伸向每個倉中。
6、如權利要求5所述的裝置，特征在于每個葉片至少在其一邊的一部分帶有導電材料，并且設置了用于產生方向垂直于葉片的非均勻磁場的裝置。
7、如權利要求6所述的裝置，特征在于葉片是用導電材料制成的，并且設置了用于產生方向垂直于葉片的非均勻磁場的裝置。
8、如權利要求1所述的裝置，特征在于每個衰減元件具有非導電材料制成的葉片，至少在葉片的一邊部分地置有導電材料層，并且設置了產生方向垂直于葉片的非均勻磁場的裝置。
9、如權利要求1所述的裝置，特征在于每個衰減元件具有導電材料制成的葉片，并且設置了產生方向垂直于葉片的非均勻磁場的裝置。
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