[其他]制備四氫化萘衍生物的方法無效
| 申請號: | 85107496 | 申請日: | 1985-10-09 |
| 公開(公告)號: | CN85107496A | 公開(公告)日: | 1986-07-23 |
| 發明(設計)人: | 尤斯·亨加納;亨里·拉馬茨 | 申請(專利權)人: | 弗·哈夫曼-拉羅切有限公司 |
| 主分類號: | C07D91/28 | 分類號: | C07D91/28;C07D93/14;C07D93/26;C07D95/08;C07D149/32;C07D69/66;C07D35/22;C07D307/77;A61K31/13;A61K31/44 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利代理部 | 代理人: | 崔曉光,張元忠 |
| 地址: | 瑞士40*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 制備 氫化 衍生物 方法 | ||
1、制備通式I所表示的外消旋物和旋光對映體形式的四氫化萘衍生物以及其可藥用的酸加成鹽的方法。
式中R代表氫或低級烷基,R1、R2、R3和R4各自代表氫或囟素或低級烷氧基或兩個相鄰的部分一起代表亞甲基二氧基或亞乙基二氧基,R5、R6、R7、R8和R9各代表氫或囟素、或C1-C10烷氧基或低級烷硫基或低級烷氧基-低級烷氧基或ω、ω、ω-三氟代-低級烷氧基或兩個相鄰的基-起代表亞甲基二氧基或亞乙基二氧基,Y代表羥基、低級烷基羰氧基、低級烷氧基-低級烷基羰氧基、低級烷氧基羰氧基、低級烷氧基-低級烷氧基羰氧基、低級烷硫基-低級烷基羰氧基或選擇取代的芐基羰氧基,m代表數字1或2,n代表數字1或2或3,
該方法包括:
a)當Y代表羥基,其他符號的定義與上述相同時,為制備式I所表示的化合物可將通式Ⅱ所表示的化合物
式中X代表離去基團,R、R1、R2、R3、R4和m的定義同上,與通式Ⅲ所表示的胺反應
式中R5、R6、R7、R8、R9和n的定義同上;或
b)當Y代表羥基,m代表為數字2,其他符號的定義同上時,為制備通式I所代表的化合物可將通式Ⅳ表示的醛
式中R、R1、R2、R3和R4的含義同上,與上文通式Ⅲ所表示的胺進行還原性胺化反應;或
c)當Y代表低級烷基羰氧基、低級烷氧基-低級烷基羰氧基、低級烷氧基羰氧基、低級烷氧基-低級烷氧基羰氧基、低級烷硫基-低級烷基羰氧基或選擇性取代的芐基羰氧基,其他符號的定義同上時,為制備通式I所表示的化合物可將通式Ia所表示的化合物
式中R、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、m和n的定義同上,與能生成低級烷基羰基、低級烷氧基-低級烷基羰基或低級烷氧基羰基或低級烷氧基-低級烷氧羰基或低級烷硫基-低級烷基羰基或選擇性取代的芐基羰基的酰化劑反應,和
d)如果需要,可將所得的外消旋物解析成旋光對映體,和/或
e)將所得到的化合物轉化成可藥用的酸加成鹽。
2、按照權利要求1所述之方法,其中R代表低級烷基。
3、按照權利要求2所述之方法,其中R代表異丙基。
4、按照權利要求1-3中任何一項所述之方法,其中Y代表羥基或低級烷基羰氧基或低級烷氧基-低級烷基羰氧基。
5、按照權利要求4所述之方法,其中Y代表羥基或乙酰氧基或甲氧基乙酰氧基。
6、按照權利要求1-5中任何一項所述之方法,其中m和n各自代表數字1。
7、按照權利要求1-6中任何一項所述之方法,其中取代基R1、R2、R3和R4中兩個代表氫,另外兩個代表氫或囟原子或低級烷氧基。
8、按照權利要求7所述之方法,其中R1和R4各自代表氫,R2和R3各自代表低級烷氧基或R2代表囟原子,R3代表氫。
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