[其他]鍍鋁薄膜的常溫快速陽極氧化技術無效
| 申請號： | 85109238 | 申請日： | 1985-12-16 |
| 公開（公告）號： | CN85109238A | 公開（公告）日： | 1986-09-03 |
| 發明（設計）人： | 方敬忠;羅贊繼;張海梅;凌凱達 | 申請（專利權）人： | 青海省太陽能研究所 |
| 主分類號： | C25D11/08 | 分類號： | C25D11/08;C25D11/18;C25D11/20;C23C28/00;C03C17/09;C23C17/27;C04B41/88 |
| 代理公司： | 青海省專利服務中心 | 代理人： | 劉開鼎 |
| 地址： | 青海省西寧市*** | 國省代碼： | 青海;63 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 鍍鋁 薄膜 常溫 快速 陽極 氧化 技術 | ||
【權利要求書】：
1、一種在非金屬基底材料上鍍鋁薄膜鏡面的常溫快速陽極氧化技術，其特征在于氧化處理在下列條件下進行：
電解液成分：
H2SO420～100ml/1(水)
Na2SiO3(水玻璃) 20～100g/l(水)
C4H6O63～20g/l(水)
(HO)C6H3(COOH)SO3H·2H2O 3～20g/l(水)
直流電電流密度1.5～3.5A/dm2，電壓15～30V，氧化處理時間2～6分鐘。
2、根據權利要求1所述的陽極氧化技術，其特征在于封閉處理按以下方法之一進行：
（1）封閉液配比為：
Na2SiO3（水玻璃） 30～100g/l（水）
K2Cr4O710～50g/l（水）
溶液溫度85～95℃，封閉處理時間5～10分鐘。
（2）封閉液為
Na2SiO3（水玻璃） 50～100g/l（水）
溶液溫度為75～85℃，通以直流電，電流密度控制在0.8～2.0A/dm2，電壓控制在20～50V，封閉處理時間1～3分鐘。
（3）封閉液為
KCr2O45～15g/l（水）
溶液溫度為75～85℃，封閉處理時間10～25分鐘。
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