[其他]在基體(例如：玻璃板)上涂覆粉狀材料方法的改進及涂覆裝置

無效

• 申請號: 85109682
• 申請日: 1985-12-30
• 公開（公告）號: CN85109682B
• 公開（公告）日: 1988-01-20
• 發明（設計）人: 瓊-克勞德·庫朗;漢斯·卡爾;漢斯·蘇斯特曼;沃爾夫岡·謝弗
• 申請（專利權）人: 日本板硝子株式會社
• 主分類號: C03C17/00
• 分類號: C03C17/00
• 代理公司: 中國專利代理有限公司
• 代理人: 曹永來

本發明是有關在基體（特別是玻璃板）上涂覆粉狀材料的方法及裝置。使粉裝材料懸浮的氣流由噴嘴出來，在用與噴嘴平行并留有間隔設置的帶狹縫的吸收裝置吸收之前，通過最終分配噴嘴在狹縫上按碰到基體表面的角度將其噴射到基體上。

利用此項技術，是為了在玻璃板制成后立即在生產線上涂覆金屬氧化物。通過金屬氧化物的熱分解使玻璃具有特殊的性能〔特別是反射和（或）透射光和能的特性〕。

用粉狀鹵化物（例如在西德專利申請號3010077中記載的化合物）調制由涂氟的氧化錫形成的紅外線反射層。

將懸浮粉狀材料的氣流噴射到高溫玻璃板上時，只有一部分粉狀材料留在玻璃上，并通過高溫作用分解形成所希望的金屬氧化物層。大部分的粉狀材料通過氣流驅動。從噴嘴出來，隨同氣流一起被帶狹縫的吸收裝置吸收。

本發明的目的在于，改進上述眾所周知的涂覆方法;增加在基體（特別是玻璃）上沉積的粉狀材料量;提高涂覆效率，以便用少量的材料生成所希望的涂覆層。

根據本發明，通過載有粉狀材料的氣體在分配噴嘴和吸收裝置之間的間隙處至少形成并保持一個渦流，可達到上述目的。

通過本發明的上述循環，渦流中心的氣流基本上是以固體形態旋轉，粉狀顆粒不會短路直接進入吸收裝置，而相反是在旋轉，從而延長了材料在基體涂覆層上的平均滯留時間，粉粒多次掃過上述基體表面，因此，沉積的可能性顯著增加。這樣，涂覆效率提高，粉料使用量顯著減少。

根據本發明的改進，可以通過適當的修正從噴嘴中噴射出來的氣體容積和（或）吸收氣體的容積來調節渦流的直徑和旋轉速度。從而改變粉料在涂覆層上的滯留時間，得到所希望的涂覆層。

根據本發明的其它實施例，通過平行于涂覆處理基體平面的氣流，形成并保持兩個向相反方向旋轉的渦流，把從分配噴嘴噴射到基體表面上的粉料沖擊到氣相懸浮體上。這樣，可進一步提高涂覆效率。

下面參照附圖對本發明進行詳細的說明。

圖1系采用本發明方法的簡單實施例，把粉料涂覆在“浮動的”玻璃板上的設備圖。圖2是把在分配噴嘴兩側形成渦流形式的粉料涂覆在“浮動的”玻璃板上的設備圖。圖3是與圖2相同的，而根據動作條件的變化在分配噴嘴各側形成兩個渦流形式的設備圖。

本發明適用于對任何基體進行粉末涂覆，而本實施例則是對“浮動的”玻璃板表面進行涂覆。但是，本發明并不限于本實施例，也可以用于其它玻璃的涂覆，如用壓延設備成形，然后在緩冷爐里進行適當冷卻的玻璃，特別是彩色玻璃的涂覆。

在圖示的板狀玻璃的“浮動”式制造法中，玻璃板1在還原氣氛的封閉區域3內設置的熔融錫浴2上形成。在上述區域3的端部，玻璃板1從錫浴2上升，并通過緩冷爐5在輥子4上向箭頭F方向連續輸送，在緩冷爐內慢慢地冷卻到大氣溫度。在錫浴2的出口，玻璃板的溫度約為600℃。

在包括錫浴2的區域3和緩冷爐5之間，設有將通過熱分解生成所希望的金屬氧化層8的粉料涂覆在玻璃板1上的區域Z。為了調節區域Z的溫度，在玻璃板1的上方和（或）下方設置加熱裝置（沒有圖示）。

為了均勻地分布粉料（例如，在制作涂氟的氧化錫層時的二氟化二丁酯錫細粉），使用在玻璃板1的整個寬度上的延伸端部設有狹縫的分配噴嘴10。這種噴嘴記載在法國專利申請號2542636和2542637上。

通過分配噴嘴10，把粉狀涂覆材料按懸浮在氣流中粉體的懸浮體12的形式噴射到玻璃板1上。分配噴嘴10的開口配置在玻璃板的緊上方。含有粉料的氣流向玻璃板掃過S長度后，通過吸收裝置14進入封閉的沉箱15，隨后通過導管16被吸收。吸收裝置14同樣由狹縫上的最終噴嘴組成，和分配噴嘴10一樣，在玻璃板1的整個寬度上與分配噴嘴相距S而平行延伸。

沉箱15的壁15′延伸到噴嘴10，形成限定涂覆區Z的高度的頂板。為了防止含有粉料的氣流從涂覆層Z中出來，在緊挨著吸收裝置14的后面設置了幾乎與玻璃板1接觸的壁18。在涂覆區Z的玻璃板1的流向各側也設置了接觸著玻璃板1的表面上的簾幕組成的封閉壁（沒有圖示）。

分配噴嘴10、沉箱15以及壁18的位置及尺寸、以及含有懸浮狀粉體的從噴嘴10噴射的氣流12，以及通過帶有狹縫的吸收裝置14吸收的氣流的流量及壓力等，可按下述原則選擇：能夠在分配噴嘴10和吸收裝置14之間產生穩定的氣體渦流20。改變上述參數可以改變渦流直徑的大小和旋轉速度。

上述渦流20，可以防止從分配噴嘴10噴射的氣體/粉料混合物只掃過玻璃板1的表面一次就被吸收裝置14吸收。