[其他]N，N-二代羧酸酰胺類的制造方法

無效

• 申請號: 86100282
• 申請日: 1986-01-15
• 公開（公告）號: CN86100282A
• 公開（公告）日: 1986-07-16
• 發明（設計）人: 加藤祥三;岡本秀則
• 申請（專利權）人: 德山曹達株式會社
• 主分類號: C07C103/30
• 分類號: C07C103/30;C07D333/06;C07D303/10;C07D317/14;C07D213/36;C07D239/26;C07D277/22;C07D271/10;C07D261/08
• 代理公司: 上海專利事務所
• 代理人: 全永留

1、一種制造式(I)所示的N，N-二代羧酸酰胺類的方法，所述方法包括在式(Ⅳ)所示的硅烷化合物的存在下使式(Ⅱ)所示的席夫堿與式(Ⅲ)所示的羧酸衍生物接觸，接觸過程中有或沒有惰性的有機溶劑存在。

在式(I)中，R表示氫原子、烷基、鏈烯基、烷氧基、鏈烯氧基、取代的羰基或者三鹵代甲基；R¹，R²和R³(彼此獨立)表示取代或未取代烷基、取代或未取代鏈烯基、取代或未取代炔基、取代或未取代芳基、取代或未取代雜芳基、取代或未取代環烷基、取代或未取代環鏈烯基、或者取代或未取代雜環烷基；R¹還可表示氫原子；R和R¹以及與它們鍵合碳原子一起可形成取代或未取代環狀基。

在式(Ⅱ)中的R，R¹和R²是按上述的規定。

在式(Ⅲ)中的R³是按上述的規定，M表示鹵原子或部分。

在式(Ⅳ)中的X，Y和Z(彼此獨立)，表示氫原子或鹵原子。

2、根據權利要求1所述的制造方法，接能反應是在-20-150℃的溫度范圍內進行。

3、根據權利要求1所述的制造方法，對于一摩爾式（Ⅱ）所示的席夫堿，式（Ⅲ）所示的羧酸衍生物用量為1-1.2摩爾，式（Ⅳ）所示的硅烷化合物的用量為0.25-2.2摩爾。

4、根據權利要求1所述的制造方法，式（Ⅱ）所示的席夫堿由下式所示的化合物所組成的組中選取：

在式（Ⅱ-1）中所示的化合物，其中E表示氧或硫，R是按上述的規定，R⁴、R⁵、R⁶和R⁷（彼此獨立）是和上述對R¹的規定相同。

在式（Ⅱ-2）中所示的化合物，其中R是按上述的規定，R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸和R⁹（彼此獨立）是和上述對R¹的規定相同。

在式（Ⅱ-3）中所示的化合物，其中J表示烷基、烷氧基、烷氧基烷基或烷氧基羰基，R是和上述的規定相同，而R⁴、R⁵和R⁶（彼此獨立）是和上述對R¹的規定相同。

5、根據權利要求1所述的制造方法，其中式（Ⅲ）所示的羧酸衍生物由下式所示的化合物所組成的組中選取：

在式（Ⅲ-1）中所示的化合物，其中M是按上述的規定，G表示氫原子、鹵原子、烷基或烷氧基。

在式（Ⅲ-2）中所示的化合物，其中M是按上述的規定，L表示苯基、吡啶基、呋喃基或芐基。

6、根據權利要求1所述的制造方法，其中R可從下列基團中選取：氫原子、有1-10個碳原子的烷基、有2-6個碳原子的鏈烯基、有1-6個碳原子的烷氧基、有2-6個碳原子的鏈烯氧基、在烷基部分有1-8個碳原子的烷基羰基、在烷氧基部分有1-8個碳原子的烷氧基羰基、以及有取代或未取代的C₆-C₁₀芳基的芳基羰基。所述的芳基取代物可從下列基團中選取：有1-6個碳原子的烷基、有2-6個碳原子的鏈烯基、有2-6個碳原子的炔基、有1-6個碳原子的烷氧基、有1-6個碳原子的烷基硫代基、在烷氧基部分有1-4個碳原子的烷氧基羰基、在烷基部分有1-4個碳原子的烷基羰基、鹵原子、氰基、硝基、在每個烷基部分有1-4個碳原子的二烷基氨基、三鹵代甲基、以及在烷基部分有1-4個碳原子的烷基羰基氧基。在三鹵代甲基中的鹵素可從氯、溴和氟中選取。

7、根據權利要求1所述的方法，R¹、R²和R³可從下列基團中選取：有1-15個碳原子的取代或未取代的烷基、有2-15個碳原子的取代或未取代的鏈烯基、有2-15個碳原子的取代或未取代的炔基、有6-20個碳原子的取代或未取代的芳基、有2-20個碳原子和1-4個雜原子（可從氮、氧和硫中選取）的取代或未取代的雜芳基、有3-20個碳原子的取代或未取代的環烷基、有3-20個碳原子的取代或未取代的環鏈烯基、以及有2-20個碳原子和1-4個雜原子（從氮、氧和硫中選取）的取代或未取代的雜環烷基;R¹還可表示氫原子;R和R¹以及與它們鍵合的碳原子一起可形成取代或未取代的C₄-C₁₅環烷基，或雜環烷基。所述取代基中的取代物可從下列基團中選取：有1-6個碳原子的烷基、有2-6個碳原子的鏈烯基、有2-6個碳原子的炔基、有1-6個碳原子的烷氧基、有1-6個碳原子的烷基硫代基、在烷氧基部分有1-4個碳原子的烷氧羰基、在烷基部分有1-4個碳原子的烷基羰基。鹵原子、氰基、硝基、在每個烷基部分有1-4個碳原子的二烷基氨基、三鹵代甲基、以及在烷基部分有1-4個碳原子的烷基羰基氧基。