[其他]N,N-二代羧酸酰胺類的制造方法無效
| 申請號: | 86100282 | 申請日: | 1986-01-15 |
| 公開(公告)號: | CN86100282A | 公開(公告)日: | 1986-07-16 |
| 發明(設計)人: | 加藤祥三;岡本秀則 | 申請(專利權)人: | 德山曹達株式會社 |
| 主分類號: | C07C103/30 | 分類號: | C07C103/30;C07D333/06;C07D303/10;C07D317/14;C07D213/36;C07D239/26;C07D277/22;C07D271/10;C07D261/08 |
| 代理公司: | 上海專利事務所 | 代理人: | 全永留 |
| 地址: | 日本山口*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 二代 羧酸 酰胺類 制造 方法 | ||
一種制造式(Ⅰ)所示的N,N-二代羧酸酰胺類的新方法,所述方法包括在式(Ⅳ)所示的硅烷化合物的存在下使式(Ⅱ)所示的席夫堿與式(Ⅲ)所示的羧酸衍生物接觸,接觸過程中有或沒有惰性的有機溶劑存在。
式(Ⅰ)中的R,R1,R2和R3是按權利要求1的規定。
式(Ⅱ)中的R,R1和R2是按上述的規定。
式(Ⅲ)中的R3是按上述的規定,M表示鹵(素)原子或部分。
式(Ⅳ)中的X,Y和Z表示氫原子或鹵(素)原子,它們彼此獨立。
本發明涉及一種制造式(Ⅰ)所示的N,N-二代羧酸酰胺的新方法,式(Ⅰ)中的R1,R2和R3是按如下的規定。
制造可用于例如醫藥品、農用化學品、以及它們的起始原料或中間體的制造上的式(Ⅰ)所示的N,N-二代羧酸酰胺的方法已為眾所周知〔參閱日本特許公開NO,4181/1985,于1985年1月10日公布;美國專利號2863752,4372972,4282028,4460603,4521243,4494978,4155744,4456471,3586496和3367847;R.B.瓦格納(Wagner),H.D.佐克(Zook)“合成有機化學”P.565(1953)約翰·威利&桑斯公司(Tohn????wiley&sons,Inc.);A.范可夫(Venkov),M.尼科洛瓦(Nikolova),N.莫洛夫(Mollov)“化學工業”(倫敦),P.808(1982)〕。
上述文獻中最通常的工業制法是包括了還原式(Ⅱ)所示的席夫
堿式(Ⅱ)中的R,R1和R2是按如下的規定),以及?;蚍减;傻倪€原產物,以形成式(Ⅰ)所示的化合物。例如,上面所引證的日本特許公開4181/1985公布了一種制造N,N-二代羧酸酰胺的方法,該法按下列流程圖經過還原起始席夫堿階段和氯乙酰化所生成的還原產物階段。
在上面的流程圖中,A表示氫原子,鹵(素)原子,烷基,烷氧基或者硫代烷基;R1、R2和R3表示氫原子,鹵(素)原子,烷基,烷氧基或者硫代烷基,它們彼此獨立。
現有的制造N,N-二代羧酸酰胺的方法(包括上面例舉的方法)有若干缺點,如它們的制造步驟復雜。用作起始原料或者中間體的化合物難于獲得或者不穩定。另外,目的化合物的得率低。這些缺點使現有的制造方法很難用簡單的制造步驟,低成本高得率地獲得目的化合物。
本發明者在改進主要包括上面兩個步驟的N,N-二代羧酸酰胺的傳統工業制法上已作了多方面研究,從而找到了通過在硅烷化合物存在下使席夫堿和羧酸衍生物接觸,便可用一步法以高的得率很容易制取所要求的N,N-二代羧酸酰胺。本發明者的研究指出:這種新的反應方式可應用到很寬范圍的席夫堿和很寬范圍的酸酸衍生物進行反應。
根據本發明提供了一種制造式(Ⅰ)所示的N,N-二代羧酸酰胺的新方法,式(Ⅰ)中的R表示氫原子、烷基、鏈烯基、烷氧基、
鏈烯氧基、取代羰基或者三鹵代甲基;R1、R2和R3彼此獨立,它們表示取代或未取代烷基,取代或未取代鏈烯基,取代或未取代炔基,取代或未取代芳基,取代或未取代雜芳基,取代或未取代環烷基,取代或未取代環鏈烯基,或者取代或未取代雜環烷基;R1還可表示氫原子;R和R1以及與它們鍵合的羰原子一起可形成取代或未取代的環狀基。
本發明所述的一種制造式(Ⅰ)所示的N,N-二代羧酸酰胺的新方法包括在式(Ⅳ)所示的硅烷化合物的存在下使式(Ⅱ)所示的席夫堿與式(Ⅲ)所示的羧酸衍生物接觸,接觸過程中有或沒有惰性的有機溶劑存在。
式(Ⅱ)中的R,R1和R2是按上述的規定。
式(Ⅲ)中的R3是按上述的規定,M表示鹵(素)原子或部分。
式(Ⅸ)中的X,Y和Z表示氫原子或鹵(素)原子,它們彼此獨立。
本發明所述的新制法可用下列反應式表示:
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