[其他]配制液態(tài)摻雜劑稀溶液的氣體載運(yùn)方法及其裝置無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 86104706 | 申請(qǐng)日: | 1986-07-10 |
| 公開(公告)號(hào): | CN86104706A | 公開(公告)日: | 1988-01-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊韌 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 楊韌 |
| 主分類號(hào): | H01L21/223 | 分類號(hào): | H01L21/223;H01L21/205;C30B31/00 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 配制 液態(tài) 摻雜 溶液 氣體 載運(yùn) 方法 及其 裝置 | ||
本發(fā)明和摻雜的氣相化學(xué)淀積技術(shù)領(lǐng)域相關(guān)。
現(xiàn)有的容量法、重量法或半定量的滴加方法(見楊英等《砷化鎵氣相外延中的N型摻雜》載于中國《一九八一年砷化鎵及有關(guān)化合物會(huì)議論文集》160頁;四機(jī)部一四四六研究所《摻錫的砷化鎵氣相外延》載于中國《一九七七年砷化鎵及其它Ⅲ-Ⅴ族化合物半導(dǎo)體會(huì)議文集》295頁)都要先配好母液再稀釋。用微量取樣器雖可省去配母液,但準(zhǔn)確性很差。所有這些方法都要暴露于空氣中操作,由于AsCl3劇毒,SiCl4、PCl3、S2Cl2、SnCl4、AsCl3等極易水解發(fā)煙,PCl3易氧化,在往返的溶液轉(zhuǎn)移、計(jì)量、搖勻等操作中,不但使這些超純液體受到空氣和過多容器的沾污,且對(duì)人體極為有害。對(duì)于BCl3,沸點(diǎn)為12℃,接觸室溫下的器皿就要?dú)饣惯@種操作無法進(jìn)行。本發(fā)明的目的,就是開創(chuàng)一個(gè)沒有這些弊端的新配液途徑,其方法是將高純載氣以低流速先通過恒溫的摻雜劑冒泡瓶(2),再流經(jīng)基質(zhì)液(指硅外延用的SiCl4、GaAs外延用的AsCl3等,文中均同)的冒泡瓶(3),精確控制流過氣體的體積,就可將摻雜劑適量地載入到基質(zhì)液中。
附圖說明:
圖1中載氣通過質(zhì)量流量計(jì)(1)經(jīng)石英四通活塞(7)、(8)分別和石英摻雜劑冒泡瓶(2)、石英基質(zhì)液冒泡瓶(3)相通,兩瓶的進(jìn)氣管上的螺旋葉(4)大大增加了氣泡和液體的接觸時(shí)間,使氣液兩相達(dá)到平衡。瓶(2)外套一恒溫槽(5)。瓶(3)通過其外部的恒溫槽(12)適當(dāng)降溫,為的是加快已氣化了的摻雜劑的溶解過程,并減少基質(zhì)液的損失,(6)為其進(jìn)氣管下端口。吸收瓶(11)能把基質(zhì)液和摻雜劑吸凈,接于三通活塞(9)上的管(10)為接入反應(yīng)系統(tǒng)中用。圖2與圖1完全相同,只是瓶(2)中沒有螺旋葉,這是對(duì)于摻雜劑的氣化易達(dá)平衡時(shí)用的裝置。
發(fā)明的詳細(xì)說明:
此方法的原理是,在低流速時(shí),讓氣液兩相充分接觸而達(dá)平衡,這是成功的關(guān)鍵。因此,若從瓶(2)流過的載氣總體積為V,其所攜出的摻雜劑的克分子數(shù)nd有如下近似關(guān)系:
nd≈ (Pd V)/(RT)
式中Pd為摻雜劑在該溫度T下的飽和蒸氣壓。當(dāng)流經(jīng)瓶(3)時(shí),對(duì)于半導(dǎo)體摻雜來說,可以認(rèn)為摻雜劑溶于基質(zhì)液中是完全的。通過上式理論計(jì)算,可以選擇合適的瓶(2)溫度T,以得到易于準(zhǔn)確控制的通氣量。
操作程序,瓶(2)(3)恒溫后,有以下五步:
1、用載氣分別沖洗管道和瓶子(2)(3)(11),驅(qū)凈空氣。
2、去除摻雜劑的低沸點(diǎn)成分。使載氣流經(jīng)瓶(2)而不經(jīng)瓶(3)放空,將摻雜劑中的低沸點(diǎn)雜質(zhì)帶走。至于哪些高沸點(diǎn)雜質(zhì),如氯化物水解后的產(chǎn)物,則不易載帶出來,取中餾分用,氣體載帶法就有純化摻雜劑之功效。當(dāng)用冷凝式冒泡瓶或串接一個(gè)簡易精餾柱時(shí),這種提純效果就更好。
3、關(guān)閉瓶(2)(3),用載氣沖凈管道中的摻雜劑,這是為了計(jì)量體積上的準(zhǔn)確。
4、氣體載帶。將流量調(diào)至適用于載帶的最佳流速。最佳流速與摻雜劑、基質(zhì)液的種類,使用溫度,瓶(2)瓶(3)的結(jié)構(gòu)尺寸有關(guān)。通常使用條件下,最佳流速都在300ml/分以下。自瓶(2)鼓出第一個(gè)氣泡開始,以實(shí)際流量計(jì)算,到達(dá)所需載氣量時(shí),立即切斷流經(jīng)瓶(2)的載氣。
5、全溶與混勻。讓載氣繼續(xù)流經(jīng)瓶(3)不過瓶(2),以便使自活塞(7)經(jīng)活塞(8)到管口(6)這段管道中的摻雜劑都溶進(jìn)基質(zhì)液中,并利用氣泡的攪動(dòng),使其充分混勻。瓶(3)就是外延用的冒泡瓶,無需溶液再轉(zhuǎn)移。
此法的顯著優(yōu)點(diǎn)是:
1、隔絕空氣操作,避免了氯化物的水解、氧化等空氣沾污及對(duì)人體毒害。
2、有純化摻雜劑功效。
3、解決了象BCl3這類在室溫下就沸騰的摻雜劑的配制問題。把BCl3放在干冰中,氣體載帶就很方便了。
4、操作簡便,設(shè)備無需投資,大都是外延實(shí)驗(yàn)室已有的。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





