[其他]阻止懸浮顆粒下落的方法和裝置以及連續式涂內膜設備的熱處理裝置

無效

• 申請號: 86107427
• 申請日: 1986-10-26
• 公開（公告）號: CN86107427A
• 公開（公告）日: 1987-04-29
• 發明（設計）人: 哈迪·P·韋斯
• 申請（專利權）人: 哈迪·P·韋斯
• 主分類號: B05D3/06
• 分類號: B05D3/06
• 代理公司: 中國專利代理有限公司
• 代理人: 吳秉芬

1、阻止懸浮顆粒或微滴(3)落在與其有關的至少沿一個尺寸方向延伸的要保持潔凈的表面(1、1′、55)上的方法，其特征為：在此表面上方通過大面積地吹入氣體和/或吸出氣體(5)造成一股氣流。

2、至少按照權利要求之一（例如，按照權利要求1）所述之方法，其中要保持潔凈的表面是熱輻射器的輻射表面（1′、51），其特征為：氣流量選為通過熱輻射器的作用進行自然對流的數量級，或氣體在循環工作中借助于熱輻射器（1′）本身加熱。

3、至少按照權利要求之一（例如，按照權利要求1或2之一）所述之方法，其特征為：氣體的吹入和吸出在表面所在區域內所設的許多不連續的地方（27、27a）進行。

4、陰止懸浮顆粒或微滴落在與其有關的至少沿一個尺寸方向延伸的要保持潔凈的表面上的裝置，其特征為：在表面（1、14、51）所在的區域至少設有一個正壓或負壓（±△P）的通氣通道（21、45），并帶有一個延伸的噴嘴裝置（27、27a、13）。

5、至少按照權利要求之一（例如，按照權利要求4）所述之裝置，其特征為：噴嘴裝置含有許多不連續的通孔（27、27a）。

6、至少按照權利要求之一（例如，按照權利要求4或5之一）所述之裝置，其特征為：噴嘴裝置（25、55）是一個金屬結構（35），它是通過對帶有許多銷子（33）的負極模板電鍍加工而實現的。

7、至少按照權利要求之一（例如，按照權利要求4至6之一）所述之裝置，其特征為：噴嘴裝置（25、55）上每Laufzen-timeter約有10至60個不連續的通孔（27、27a）。

8、至少按照權利要求之一（例如，按照權利要求7）所述之裝置，其特征為：通孔截面積的總和占噴嘴裝置面積的30-50%。

9、至少按照權利要求之一（例如，按照權利要求4至8之一）用來阻止涂層顆粒或微滴落在工件表面（37）涂覆設備的熱處理裝置中沿縱向延伸的熱輻射器（55）上的裝置，其特征為：噴嘴裝置（55）構成一個槽，它與輻射器縱軸線同軸，并與之徑向隔開一定距離，尤其是它還起反射器的作用。

10、至少按照權利要求之一（例如，按照權利要求4至9之一）所述之裝置，其特征為：噴嘴裝置（55）的通孔可有選擇地覆蓋（29），如用膠帶、漆或其它覆蓋材料，有選擇地使噴嘴裝置（55）的線狀或面狀的工作通孔（27a）的圖形保持暢通。

11、至少按照權利要求1至3之一所述的方法或至少按照權利要求4至10之一所述的裝置應用于圓柱體涂內膜（如罐頭涂內膜）特別是用于它的縱向焊縫（47）涂內膜的熱處理裝置中。

12、為圓柱體（37）（如罐頭）連續式涂內膜設備的熱處理裝置，其特征為：設有一個沿運行方向縱向延伸、裝在圓柱體內腔運動軌道里面的熱輻射器（51），以及設有一個至少按權利要求4至10之一所述的用于使輻射器表面保持潔凈的裝置。

13、至少按照權利要求1至3之一所述的方法或至少按照權利要求4至10之一所述的裝置應用于使熱輻射器表面保持潔凈。