[其他]阻止懸浮顆粒下落的方法和裝置以及連續式涂內膜設備的熱處理裝置無效
| 申請號: | 86107427 | 申請日: | 1986-10-26 |
| 公開(公告)號: | CN86107427A | 公開(公告)日: | 1987-04-29 |
| 發明(設計)人: | 哈迪·P·韋斯 | 申請(專利權)人: | 哈迪·P·韋斯 |
| 主分類號: | B05D3/06 | 分類號: | B05D3/06 |
| 代理公司: | 中國專利代理有限公司 | 代理人: | 吳秉芬 |
| 地址: | 瑞士·赫頓*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 阻止 懸浮 顆粒 下落 方法 裝置 以及 連續 內膜 設備 熱處理 | ||
本發明涉及一種阻止懸浮顆粒或懸浮微滴落在與它有關的至少沿一個尺寸方向延伸的應保持清凈的表面上的方法,此外還涉及一種有關的裝置,這種方法或裝置在圓柱體(如罐頭盒)涂內膜(主要是給它的縱向焊縫部分涂內膜)的熱處理裝置上的應用,以及用于圓柱體(如罐頭盒)連續式涂內膜設備的熱處理裝置。
在粉層或漆層的涂覆工藝中,例如將粉狀的、微滴狀的或液體狀的涂料在必要時借助于靜電涂覆在工件上,通常在涂覆后要加熱涂層,以使顆粒融合或使液體涂層干燥成一個密封的縫。為此在涂層區設熱源。由于不能完全防止涂料粘附得不好(當加熱區直接安裝在涂層區時),或涂料由涂層區進入熱源區(如紅外線輻射器)而落在它上面時,會使輻射表面污染,涂料被烘烤后在那里形成硬皮。
本發明的目的是提出本文一開始所述的那種方法,使至少在一個尺寸方向延伸的潔凈表面不會由于落下懸浮顆粒或微滴而被污染。
達到此目的的方法是在此表面的上方通過大面積的吹入氣體和/或吸走氣體來產生一股氣流。
因此可見,在要保持潔凈的表面上方形成了一層流動氣體,使向下落的顆粒或微滴在到達潔凈表面以前被帶走。對于面積較小的潔凈表面只須鼓風以防顆粒或微滴沉積,但對于面積較大的潔凈范圍這樣做達不到目的。因為這時所產生的紊流可能在小范圍內防止沉積,然而在其相鄰區恰好促進了沉積。
如果潔凈表面是熱輻射器的輻射表面,則上面所說的在此表面上方的氣流會帶來一個問題,即由此而降低了輻射器的效率,因為在不采取其它措施的情況下此表面被該氣流所冷卻。
為防止這一點,我們建議在這種情況下氣流量選擇在使熱輻射器起作用的自然對流的數量級上,或使氣體借助于熱輻射器本身在循環工作中加熱。后一種方案的實施是通過使氣體在循環工作中經過一個良好絕熱的系統流動,必要時在那里附加地加熱,以防止由氣流將熱量從輻射器帶走。通過設計氣流量在自然對流的數量級范圍內,使輻射器的效率損失控制在可忽略的限度之內。
對于大面積的氣體吹入和吸出,在流動速度較小時面臨一個涉及吹氣嘴和吸氣嘴結構方面的問題,尤其是當例如人們想要在使用熱輻射器時以盡可能小的氣體量產生所要求的氣流時。所設置的空間散布的噴嘴必須有小的直徑,這首先想到應設計長的縫隙式噴嘴,但是所要求的精度和長度很難保證。所以人們進一步建議氣體的吹入和吸出通過設在該表面所在范圍內的許多不連續的地點來進行,這比上述縫隙式噴嘴實現起來要容易得多。
為達到所提目的之上述結構的特征是,在該表面所在的區域中至少設有一個正壓供氣通道或負壓吸氣通道,有一個延伸的噴嘴裝置,最好有大量不連續的通孔。
通過使沿噴嘴裝置有一個基本上固定的壓力分布,使氣體由通道均布地流出。借助于很多不連續、可以是特別細小前通孔,有小量的氣體便已經可以在應保持潔凈的表面上方形成足夠的氣流。
噴嘴裝置最好是一個通過在帶許多銷子的負極模板上進行電鍍后而形成的金屬結構。
這樣加工而成的結構具有尺寸準確并彼此緊靠的小通孔,并基本保證氣體無紊流地流入和流出。最好在噴嘴裝置上每Laufzentimeter設有大約10至60個通孔,而且這時通孔橫截面積的總量最好約占該噴嘴裝置面積的40%。
為了阻止涂層顆粒或微滴落在工件表面涂覆設備的熱處理裝置中的一個沿縱向延伸的熱輻射器上,我們還建議在噴嘴裝置上形成一個與輻射器徑向隔開一定距離并與其縱軸線同軸的槽。
噴嘴裝置在結構上具有大量的分布開的通孔,可以達到在使用方面具有高度的靈活性,通過有選擇地(例如用膠帶或漆)覆蓋這些通孔,可以有選擇地使線狀或面狀散布的工作通孔保持暢通。所以將實際上起到很窄的縫隙式噴嘴同樣作用的通孔線保持暢通,而將其余的孔覆蓋住。
上述結構再加上縱向延伸的熱輻射器,使所述的用于噴嘴裝置的電鍍制造工藝還有另一個重要的優點。與使用網格狀編織物作為噴嘴裝置不同,通過電鍍法制得一個特別光滑的金屬表面,它在輻射器所在區對于輻射來說,起到反射器的作用,并在桿狀輻射器的情況下,使所發出的那些沒有朝向工作的熱輻射反射向工件。
按本發明的圓柱體(如罐頭盒)連續式涂內膜設備的熱處理裝置具有一個沿運行方向延伸的裝在圓柱體內腔運動軌道里面的熱輻射器,并且還有一個如上述的使輻射器表面保持清凈的裝置。
下面借助于附圖所示之實例說明本發明。
其中:
圖1????潔凈的延伸表面透視示意圖,具有本發明所設置的大面積氣體吹入或吸出。
圖2????與圖1類似的以熱輻射器表面作為潔凈表面的透視圖,具有按本發明的氣流循環工作的噴嘴裝置。
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