[其他]唑烷二酮衍生物、其制造方法及含有該衍生物的除草劑

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 86108416
• 申請日: 1986-10-10
• 公開（公告）號(hào): CN86108416A
• 公開（公告）日: 1987-07-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 平井憲次;渕上高正;村田敦子;廣瀨弘明;橫多正浩;長戶松陰
• 申請（專利權(quán)）人: 相模中央化學(xué)研究所;齊索株式會(huì)社科研制藥株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C07D263/44
• 分類號(hào): C07D263/44;A01N43/76
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利代理部
• 代理人: 孫令華

1、一種噁唑烷二酮衍生物，其特征在于：它由通式

表示，式中R¹，R²及R³為彼此獨(dú)立的氫原子，鹵素原子，硝基，烷基，烷氧基，烯氧基，炔氧基或環(huán)烷氧基；R⁴及R⁵為彼此獨(dú)立的氫原子，烷基，芳基或者R⁴和R⁵成為一體而形成聚亞甲基鏈；上述烷基，烷氧基，烯氧基，環(huán)烷氧基和芳基也可以被取代。

2、根據(jù)權(quán)利要求1的噁唑烷二酮衍生物，其特征在于：R¹，R²和R³為彼此獨(dú)立的氫原子;鹵素原子;硝基;碳數(shù)為1～5的直鏈或支鏈烷基（也可以由1個(gè)或2個(gè)以上的鹵素原子取代）;或是碳數(shù)為1～8的直鏈或支鏈烷氧基。

3、根據(jù)權(quán)利要求1或2的噁唑烷二酮衍生物，其特征在于：R⁴和R⁵為彼此獨(dú)立的氫原子;碳數(shù)為1～8的直鏈或支鏈烷基;碳數(shù)為6～10的芳基（也可以由1個(gè)或2個(gè)以上的鹵素原子取代）;或R⁴和R⁵作為一體成為碳數(shù)3～10的直鏈或支鏈聚亞甲基。

4、根據(jù)權(quán)利要求1的噁唑烷二酮衍生物，其特征在于：R¹，R²和R³為彼此獨(dú)立的氫原子，鹵素原子;也可以是由碳數(shù)為2～18的烷氧羰基取代的、碳數(shù)為1～8的烷氧基;也可以是由碳數(shù)為1～5的烷基或鹵素原子取代的、碳數(shù)為3～8的環(huán)烷基;也可以是由1個(gè)或2個(gè)以上的鹵素原子取代的、碳數(shù)為2～8的直鏈或支鏈烯基;也可以是由1個(gè)或2個(gè)以上的鹵素原子取代的、碳數(shù)為2～8的直鏈或支鏈炔基。

5、根據(jù)權(quán)利要求1或4的噁唑烷二酮衍生物，其特征在于：R⁴和R⁵為彼此獨(dú)立的氫原子或碳數(shù)為1～8的直鏈或支鏈烷基。

6、一種由通式

表示的噁唑烷二酮（式中，R¹，R²，R³，R⁴和R⁵如前所記）的制造方法，其特征在于：用堿來處理由如下通式表示的氨基甲酸酯：

（式中，R¹，R²和R³為彼此獨(dú)立的氫原子，鹵素原子，硝基，烷基，烷氧基，烯氧基，炔氧基或環(huán)烷氧基;R⁴和R⁵為彼此獨(dú)立的氫原子，烷基，芳基或者R⁴和R⁵成為一體而形成聚亞甲基鏈;R⁶為烷基;上述烷基，烷氧基，烯氧基，環(huán)烷氧基和芳基也可以被取代）。

7、根據(jù)權(quán)利要求6的噁唑烷二酮的制造方法，其特征在于：反應(yīng)是在惰性有機(jī)溶劑中、室溫乃至回流溫度下進(jìn)行的。

8、根據(jù)權(quán)利要求6或7的噁唑烷二酮的制造方法，其特征在于所用的堿為有機(jī)叔胺;芳香族胺;烴氧基堿金屬;堿金屬氫化物;堿金屬氫氧化物或堿性無機(jī)鹽類。

9、一種由通式

表示的噁唑烷二酮〔式中，R¹，R²，R⁴和R⁵如前所記，R^3′為-O-R⁷（R⁷如下所記）〕的制造方法，其特征在于，使用通式

表示的苯酚衍生物（式中，R¹和R²為彼此獨(dú)立的氫原子，鹵素原子，硝基，烷基，烷氧基，烯氧基，炔氧基或環(huán)烷氧基;R⁴及R⁵為彼此獨(dú)立的氫原子，烷基，芳基或者它們作為一體形成聚亞基鏈;上述烷基，烷氧基，烯氧基，環(huán)烷氧基和芳基也可以被取代;M為氫原子或堿金屬）和由通式R⁷-Y表示的化合物（式中R⁷為取代或非取代的直鏈或支鏈的烷基，烯基或炔基或取代、非取代的環(huán)烷基;Y為脫離基）在M為氫原子并有堿存在時(shí)進(jìn)行反應(yīng)。