[其他]硫化鉛多晶薄膜的激光敏化方法無效
| 申請號: | 87102141 | 申請日: | 1987-03-21 |
| 公開(公告)號: | CN87102141A | 公開(公告)日: | 1988-10-12 |
| 發明(設計)人: | 孫維國;胡榮武 | 申請(專利權)人: | 航空工業部第014中心 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01G9/20;G01J5/10 |
| 代理公司: | 航天工業部專利事務所 | 代理人: | 馬國祥,王淑慈 |
| 地址: | 河南洛陽*** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 硫化鉛 多晶 薄膜 激光 方法 | ||
1、一種關于PbS紅外光敏元件敏化工藝方法,包括在玻璃襯底上沉淀一層PbS薄膜,其特征在于,采取激光照射的方法做為敏化手段。
2、根據權利要求1的方法,其特征在于,到達PbS薄膜表面的激光功率密度的范圍是100瓦/厘米2~300瓦/厘米2。
3、根據權利要求2的方法,其特征在于,所采用的激光器是二氧化碳氣體激光器。
4、根據權利要求1、2、3其中之一的方法,其特征在于,在敏化過程中,通過觀察元件的顏色變化來判斷敏化情況,確定激光照射的時間。
5、根據權利要求4的方法,其特征在于,當PbS薄膜的顏色呈現藍灰色時停止激光照射。
6、根據權利要求5的方法,其特征在于,對敏化后的光敏元件進行退火處理可以提高其性能和穩定性。
7、根據權利要求6的方法,其特征在于,退火的溫度范圍是135°±10℃。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





