[其他]發射光譜的表觀濃度法

無效

• 申請號: 87103303
• 申請日: 1987-04-30
• 公開（公告）號: CN1004580B
• 公開（公告）日: 1989-06-21
• 發明（設計）人: 姚泰煜
• 申請（專利權）人: 四川省自貢市鑄鋼廠
• 代理公司: 四川自貢市專利事務所
• 代理人: 黃道和;江家清

1、一種發射光譜的表觀濃度法，該方法吸取了內標法和共存元素干擾校正技術，利用常規光源直接分析金屬樣品多元素，其特征是采用一種包括目標元素的真實濃度、共存元素干擾校正量和基體元素濃度校正量在內的濃度函數，即“表觀濃度”作為光譜分析的中間目標量，這種表觀濃度定義為

C_j′＝C_j″+△C_j″ （10）

可運用

求出已知化學組成的標準樣品中各元素的表觀濃度，用標準樣品中包括被測元素和共存元素在內的全部目標元素的表觀濃度和相應的分析線對的相對強度擬合“表觀濃度工作曲線”，用這樣的工作曲線分析未知樣品得出各目標元素的表觀濃度后，解線性方程組

求得各自標元素的相對濃度，再用

（13）

求得各目標元素的真實濃度。

2、根據權利要求1所述的方法，其特征是定時積分法屬于該方法的一種特例，其表觀濃度定義為

C_j′＝C_j+△C_j （11）

運用

（19）

計算已知化學組成的標準樣品中各自元素的表觀濃度，然后用目標元素的表觀濃度和相應分析線的絕對強度定時積分值擬合“表觀濃度工作曲線”，用這樣的工作曲線分析未知樣品得出各目標元素的表觀濃度后，解方程組

求出各目標元素的真實濃度。

3、根據權利要求1所述的方法，其特征是規定被測元素自身的干擾系數為1，即規定f″_jj＝1，得到式（18）和（20），結合式（12）和（13）實現表觀濃度、相對濃度和真實濃度之間的計算。

4、根據權利要求2所述的方法，其特征是規定被測元素自身的干擾系數為1，即規定f_jj＝1，得到式（19）和（21），實現表觀濃度、真實濃度之間的計算。

5、根據權利要求1或2所述的方法，其特征是采用一套干擾系數建立相應表觀濃度工作曲線，一般適用于數種牌號或品種的金屬樣品，分析基體元素相同但化學組成差別很大的樣品時，更換另一套合適的干擾系數并建立相應的表觀濃度工作曲線來實現，在更換干擾系數的同時改變式（12）和（13）中基體元素濃度的內容，便可分析另一類基體和化學組成均不同的金屬樣品。