[其他]多室淀積系統(tǒng)

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 87104355
• 申請日: 1987-06-22
• 公開（公告）號: CN87104355A
• 公開（公告）日: 1988-02-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 里查德·L·雅各布森;弗蘭克·R·杰弗里;羅格·維斯特伯格
• 申請（專利權(quán)）人: 明尼蘇達(dá)采礦和制造公司
• 主分類號: C23C16/54
• 分類號: C23C16/54;C23C16/50
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利代理部
• 代理人: 薛明祖

1、一種將不同成份的多層涂膜淀積在基板上的真空淀積設(shè)備。該設(shè)備包括：

一個能承受相差一個大氣壓的基本真空室；

幾個安裝在上述真空室內(nèi)的淀積室，各噴鍍室包括一塊底板和幾個側(cè)壁構(gòu)成的一個矩形開口空間，一個與側(cè)壁上沿相吻合的臺板，與兩對應(yīng)側(cè)壁相連的框架分別構(gòu)成一個入口槽和一個出口槽，通過出入口槽，帶材可穿入或穿出淀積室；

與真空室相連泵用來將真空室和相應(yīng)的淀積室抽真空。

2、一套真空淀積設(shè)備，用來將各種成份的涂層材料淀積到一移動的基板上，每一涂層都藉輝光放電來得以淀積，該設(shè)備包括：

一個真空室;

真空室內(nèi)用來支承基板輥?zhàn)拥难b置，

真空室內(nèi)用來重新卷繞淀積過的基板的卷繞輥，

真空室內(nèi)的幾個相互間隔安放的淀積室，

對貫穿各個淀積室的基板進(jìn)行導(dǎo)向的裝置，

每個淀積室包括構(gòu)成帶有一個導(dǎo)入基板的入口槽和一個導(dǎo)出基板出口槽的箱體的側(cè)壁，槽的作用是給通道以一定的限定，

將氣體輸入淀積室的裝置，

將淀積室加熱的裝置，

使淀積室內(nèi)產(chǎn)生電勢從而產(chǎn)生等離子體使得氣體中至少有一種元素淀積到基板上的裝置，

連續(xù)地將基板自送料輥送進(jìn)到卷緊輥裝置，

一個與真空室相連的泵，該泵用來保持真空室內(nèi)的壓力。各淀積室內(nèi)的壓力高于真空室內(nèi)的壓力，主要是防止氣體自一個淀積室擴(kuò)散到另一個淀積室中。

3、根據(jù)權(quán)利要求2中所述的真空淀積設(shè)備，其用于基板導(dǎo)向的裝置包括，一塊自入口槽延伸至出口槽處的臺板，該臺板具有平滑的輪廓表面，在基板自淀積室傳送的過程中，基板與臺板緊密相貼。

4、根據(jù)權(quán)利要求2中所述的一種真空淀積設(shè)備中的每一個淀積室包括，一塊底板，自該底板四邊向上延伸的具有一定間隔的側(cè)壁和端壁，底板上的加熱裝置，底板上及四邊側(cè)壁內(nèi)的一塊石英板，一個與石英板毗鄰?fù)瑫r又與底板相隔的電極，與電極相鄰的用來輸入氣體的裝置，一塊將電極圍封在側(cè)壁內(nèi)的臺板，該臺板與端壁相結(jié)合構(gòu)成的入口槽和出口槽以用來排放淀積過程中產(chǎn)生的細(xì)小顆粒。

5、一種將基板淀積上薄涂層的方法的步驟為：

將一個內(nèi)裝有一卷薄帶材的大倉室抽成真空，

從給料輥來的帶材向前送進(jìn)，在輝光放電的作用下，通過帶材清理室，

將帶材傳送并通過淀積室，并在輸入淀積室內(nèi)的工作氣體所產(chǎn)生的輝光放電作用下，將某些元素淀積到帶材上。淀積室中的壓力大于大倉室的壓力。

帶材繼續(xù)向前傳送到第二淀積室，使生產(chǎn)過程中的氣體中的諸元素在高于大倉室的壓力下，通過輝光放電作用被淀積到帶材上形成第二層薄膜。

將帶材向前傳送通過第三個淀積室，使生產(chǎn)過程的氣體中的元素在輝光放電作用下淀積到帶材上形成第三層薄的涂層，

將帶材重新繞到大倉室內(nèi)的一個卷緊輥上，

將大倉室內(nèi)減少的氣體壓力保持在壓力低于各淀積室的壓力之下，以防止各淀積室的生產(chǎn)氣體相互擴(kuò)散。