[其他]施利爾雷恩暗場型光閥投影器的偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 87105269 | 申請日: | 1987-08-01 |
| 公開(公告)號: | CN87105269A | 公開(公告)日: | 1988-03-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 阿爾弗萊德·G·盧新 | 申請(專利權(quán))人: | 通用電氣公司 |
| 主分類號: | H04N3/16 | 分類號: | H04N3/16;H04N9/285 |
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進委員會專利代理部 | 代理人: | 趙蓉民 |
| 地址: | 美國康*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 施利爾 雷恩 暗場 型光閥 投影 偏轉(zhuǎn) 系統(tǒng) | ||
本發(fā)明主要與施利爾雷恩(schlieren)暗場型光閥投影系統(tǒng)的改進有關(guān);更具體地說,與偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)的改進有關(guān);這種改進使上述光閥的結(jié)構(gòu)簡化,性能提高。
Schlieren暗場型光閥投影系統(tǒng)已進入市場多年,性能優(yōu)良。關(guān)于這種彩色投影系統(tǒng)的已有技術(shù)的典型描述,可參閱美國專利第3,290,436號,第3,352,592號和第3,437,746號,這些專利都是屬于W.E.Good等人的。在下文中,將結(jié)合圖1、圖2和圖3,對這種類型的投影系統(tǒng)工作原理作簡要描述。
圖1所示為一個單槍電視光閥組件,包括燈10,密封光閥12和Schlieren投影透鏡14。密封光閥12有一玻璃罩,該罩內(nèi)有電子槍16,入射狹縫18、聚焦一偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)20、旋轉(zhuǎn)圓盤22上的控制層32和液體槽24。
由電子槍16發(fā)出的一束電子束,穿過陰極孔闌11,電子束將電荷圖形“寫”在控制層32上。這些電荷圖形使控制層產(chǎn)生表面形變;形成衍射光柵。在已有技術(shù)裝置中,通過電極23,25,27和21將電子束聚焦、偏轉(zhuǎn)和調(diào)制。控制層上的表面形變使通過控制層32和轉(zhuǎn)盤22的光線受到衍射和調(diào)制。
聚焦一偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)20中包括三個電極組,每組有四個正交設(shè)置的電極;從而形成三個電極“箱”,分別稱作C箱23,D箱25和F箱27;20中還包括筒狀電極21。第一個電極箱,即C箱23,裝在入射窗口的孔闌附近,用來將電子束對準中心和預(yù)偏轉(zhuǎn)。在后面的兩個電極箱,即D箱25和F箱27上,加有直流和交流電壓,使均勻聚焦的電子束在控制層32上形成孔闌11的像,這個像掃過整個光柵屏面。這就使控制層液體受到電荷控制的均勻調(diào)制,從而產(chǎn)生均勻的彩色投影像。在聚焦偏轉(zhuǎn)箱,D箱25和F箱27,之后,裝有漂移環(huán)21,它與轉(zhuǎn)盤22上的透明電極一起作用,組成聚焦偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)20中最后一組電子透鏡元件。
光調(diào)制液體的具體例子在下列美國專利中有所描述:W.Plump的第3,288,927號,Edward????F.Perlowski,Jr的第3,317,664號和第3,317,665號,Carlyle????S.Herrick等的第3,541,992號,C.E.Timber-lake的第3,761,616號,還可在這種液體中加入添加劑,如David????A.Orser的美國專利第3,764,549號中所描述的那樣。總之,控制層或光調(diào)制液體是一種很特殊的化學(xué)化合物,這種液體可通過特殊的添加劑加以改變,這種液體的電-機械特性和粘滯-彈性特性正是電子束控制光閥的有效的控制層所應(yīng)有的特性。
在基本集光系統(tǒng)中,有一個弧光燈10,它可以是氙燈;燈的弧光位于反射器系統(tǒng)的焦點上,該反射器系統(tǒng)可以是如圖中所示的簡單橢園反射器,或如在美國專利第4,305,099中所描述的復(fù)合反射器,該專利申請人是Thomas????T.True等。由反射器反射出的弧光經(jīng)過一對透鏡片射出,這對透鏡片上有沿水平方向排成行、和沿豎直方向排成列的多個矩形凹凸。如圖1所示,第一個鏡片在28處,第二個鏡片在光閥12的玻璃罩的光入射表面。由燈10發(fā)出的光在通過彩色濾波片26和凹凸透鏡28后,才進入光閥12。
光閥12玻璃罩的內(nèi)部表面上附有一層光入射模片18,模片形成狹縫,可以采用、例如氣相沉積法形成。入射狹縫18的一般圖形如圖1所示,由一系列透明的狹縫和不透明相間的窄條構(gòu)成。由燈10發(fā)出的經(jīng)濾波的光線,經(jīng)過這些透明狹縫后才進入光閥12。凹凸透鏡28的鏡面和在光閥12玻璃罩光入射表面上形成的對應(yīng)鏡面組成聚焦透鏡對,該透鏡對首先將經(jīng)過濾波的光點聚焦在光模片的狹縫上,然后將光線在控制層屏面32上再次成像,使用這種裝置,可以使弧光燈發(fā)出的光得到有效利用,并使光以矩型圖型均勻地分布在光調(diào)制介質(zhì)或控制層32上。
Schlieren投影透鏡14包括Schlieren透鏡元件29,出射色彩選擇條30和投影透鏡系統(tǒng)31。輸出選擇條30的圖形與狹縫18互補。也就是說,在出射條板上,窄條的排列與入射狹縫18上狹縫的排列在光學(xué)上相互對應(yīng),使得當沒有衍射光通過控制層32時,光線被聚焦并被阻擋在出射條板的窄條上。這樣就產(chǎn)生了“暗場”條件,即如果偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)20的水平和垂直偏轉(zhuǎn)片上沒有加上光柵掃描信號,則不會有光透過。但是需要指出,掃描光柵和向控制層提供電荷的電子束是穩(wěn)恒電流電子束,電子槍16并不對電子束進行強度調(diào)制(僅在水平和垂直回掃周期內(nèi)電子束被關(guān)斷)。
圖1的下半部分是發(fā)光體和光閥的截面圖。圖1底部的光譜圖說明了光在進入光閥前是如何被預(yù)濾波的。
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