[其他]在半導體圓片的邊緣制造斜面的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 87106903 | 申請日: | 1987-10-13 |
| 公開(公告)號: | CN87106903A | 公開(公告)日: | 1988-04-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 吉利·德勞希 | 申請(專利權(quán))人: | BBC勃朗·勃威力有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/304 | 分類號: | H01L21/304;B24B9/06 |
| 代理公司: | 中國專利代理有限公司 | 代理人: | 程天正,吳秉芬 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導體 邊緣 制造 斜面 方法 | ||
本發(fā)明涉及大功率半導體器件的技術(shù)領(lǐng)域。它專門討論一種在半導體園片、特別是用于中、高壓二極管的半導體園片的邊緣制造斜面的方法。
人們早已知道,對高阻擋層的功率半導體器件,特別是對中、高壓合金結(jié)二極管,通過使其基礎(chǔ)構(gòu)件的半導體園片具有適當傾斜的邊緣(即所謂的“正斜角”),以降低表面的電場強度并近似地達到由體特性所決定的耐壓特性。
目前的技術(shù)可使這樣的斜邊形狀由各種方式形成。例如,在DE-PS????1589????421中建議的用一種超聲工具,例如一種超聲鉆床,在半導體園片上形成斜邊。
另一種在US-PS????3,262,234中介紹的方法是使用噴砂法成形。
最后如在DE-AS????15????39????101中順便提及的,可用一種噴砂過程或磨削過程來使半導體器件的邊緣變成斜邊,但是該文沒有詳細地給出實際可用的方法。
在半導體加工方法中,上述的超聲鉆床方法是比較陳舊的一種并由噴砂方法所取代,因為這種方法經(jīng)常引起半導體園片的晶格的破壞以及邊緣的破裂。
但在成批生產(chǎn)中使用噴砂方法具有下述缺點:
1、噴砂過程中的容差是難以重復的。
2、噴砂設(shè)備,特別是噴嘴極易磨損,而維修又特別費錢。
3、加工時間與園片厚度成正比,因而生產(chǎn)線的生產(chǎn)能力強烈地依賴于半導體園片的厚度。
盡管有上述這些缺點,噴砂加工法迄今仍在廣泛使用,這是因為尚無較好的,經(jīng)過實際考驗的成形方法。
本發(fā)明的目的是提供一種產(chǎn)生斜邊形狀的方法,它簡單易行,提供可重復的結(jié)果,并且只要求比較低的技術(shù)條件。
本發(fā)明的目的可由下述方式實現(xiàn),即把半導體園片緊壓在墊片上,園片可轉(zhuǎn)動,其邊緣用一旋轉(zhuǎn)砂輪的正面磨制,砂輪的轉(zhuǎn)軸與壓緊的半導體園片的轉(zhuǎn)軸相交成一適當?shù)慕嵌取?/p>
本發(fā)明的核心在于用砂輪來磨削半導體園片,斜邊純粹由機械加工的方法形成,這樣就保持了磨削設(shè)備的完全確定的幾何形狀。
在一個較佳實施例中,園片壓緊之前先與一個鉬片合金化地連在一起,然后再讓這半導體園片和鉬片組合一起壓緊后去研磨。這樣在研磨時半導體園片所受的機械負載可顯著地降低。
在又一個較佳實施例中,選用金鋼石砂輪,其規(guī)格為:金鋼石顆粒的平均直徑為25微米,密度約為3.3克拉/厘米3,包埋在金屬黏結(jié)劑中。采用這樣的砂輪可達到非常均勻和精確的斜邊形狀,同時又具有足夠的壽命。
本發(fā)明藉助于附圖并結(jié)合實施例在下面進一步闡明。
本文唯一的附圖示出了一種磨削設(shè)備的幾何布局,這樣的布局可實現(xiàn)根據(jù)本發(fā)明的一個較佳實施例所確定的加工方法。
附圖簡要地示出了一種磨削設(shè)備,由此可將半導體園片的邊緣磨成斜邊。
為此最好先把半導體園片1合金化地聯(lián)在鉬質(zhì)園片2上,同時該鉬片以后可用作成品器件的合金接觸。
這個由半導體園片1和鉬質(zhì)園片2組成的片狀結(jié)構(gòu)然后在兩個壓緊機構(gòu)3和6間以相應(yīng)的卡盤瓜4和5壓緊。壓緊機構(gòu)3和6是可旋轉(zhuǎn)的,因此被壓緊的半導體園片在磨削過程中也可旋轉(zhuǎn)。
由壓緊機構(gòu)3和6組成的壓緊裝置有一轉(zhuǎn)軸,砂輪7則安裝在砂輪軸8上,兩軸相交成一定角度適當安置,以便能用砂輪的正面在半導體園片1上磨出所需要的斜邊。因此斜邊的角度即由壓緊裝置的轉(zhuǎn)軸和砂輪的轉(zhuǎn)軸8之間的夾角決定。
為了讓半導體園片整個片子的周圍均能獲得同樣的邊緣形狀,使用一個帶有固定轉(zhuǎn)軸的壓緊裝置是必要的。在壓緊時把半導體園片需要仔細對中,但如采用一個垂直于轉(zhuǎn)軸可動(如圖中以雙箭頭表示的方向)的壓緊裝置,就可以避開這一費時而仍難免有誤差的對中過程。
這樣讓壓緊的鉬質(zhì)園片2的邊緣與一可旋轉(zhuǎn)的仿形園盤9接觸,仿形園盤的轉(zhuǎn)軸10是固定的。
在磨削過程中,當鉬質(zhì)園片2沿仿形園盤9滾動時,既便是半導體園片在壓緊裝置中對中不良,鉬質(zhì)園片2以及半導體園片仍一起與砂輪7相切而軸向轉(zhuǎn)動。壓緊時不準確的對中將表現(xiàn)為壓緊機構(gòu)3和6在雙箭頭方向的振蕩式運動。
在磨削過程中砂輪7將以進刀量V向半導體園片1運動(沿圖中單箭頭方向)。對于下面將更詳細地描述的金鋼石砂輪而言,進刀量V最好選取4毫米/每分鐘,以便縮短加工時間而同時又能得到良好的表面結(jié)構(gòu)。
對于截止電壓在300伏到6000伏之間的硅二極管,其硅片厚度在200微米到1000微米之間,成批生產(chǎn)時最好選用下列規(guī)格的金鋼石砂輪:
1、砂輪直徑大約為150毫米左右。
2、砂輪含有平均直徑為25微米的金鋼石顆粒。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
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H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
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H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





