[其他]4-乙酰氧基-3-羥乙基氮雜環(huán)丁-2-酮衍生物的制備方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 88100764
• 申請日: 1988-02-15
• 公開（公告）號: CN88100764A
• 公開（公告）日: 1988-08-31
• 發(fā)明（設計）人: 佐田功;菅和憲;上山升;松本慎吾;大橋武久;渡邊清
• 申請（專利權）人: 鐘淵化學工業(yè)株式會社
• 主分類號: C07D205/08
• 分類號: C07D205/08
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進委員會專利代理部
• 代理人: 唐躍

本發(fā)明是關于4-乙酰氧基-3-羥乙基氮雜環(huán)丁-2-酮衍生物的一個新制備方法，其中C₃位有羥基被保護的羥乙基，C₄位有一乙酰氧基。

已經(jīng)知道，4-乙酰氧基-3-羥乙基氮雜環(huán)丁-2-酮衍生物是制備諸如硫霉素和青霉烯（penem）β-內(nèi)酰胺抗生素等碳青霉烯類（carbapenem）β-內(nèi)酰胺抗生素的有用中間體（參見，如《四面體通信》，Reider等，23卷，2293頁，1982和化學藥物通報，Yoshida等，29卷，2899頁，1981）。

至今已知有幾種合成4-乙酰氧基-3-羥乙基氮雜環(huán)丁-2-酮衍生物的方法，例如，從6-氨基青霉烷酸合成目的物（參見化學藥物通報，Yoshida等，29卷，2899頁，1981），從蘇氨酸合成（參見《四面體》，Shiozaki等，39卷，2399頁，1983）和從天冬氨酸合成（參見《四面體通信”，Reider等，23卷，2293頁，1982）。但是，這些方法都有一個問題，即為了在β-內(nèi)酰胺環(huán)的C4位引入乙酰氧基要用諸如醋酸汞和四醋酸鉛等對工業(yè)生產(chǎn)不利的重金屬化合物。

本發(fā)明者發(fā)明了一個低溫下在β-內(nèi)酰胺環(huán)的C4位引入乙酰氧基的方法，利用β-內(nèi)酰胺化合物，其中N未經(jīng)保護，C3位是O-保護的羥乙基C4位有一硅醚基（日本未審查專利號公開258353/1987）。

現(xiàn)已發(fā)明在β-內(nèi)酰胺環(huán)的C4位以高產(chǎn)率引入乙酰氧基的方法;室溫下反應系統(tǒng)里加入催化量的酸、酰囟、磺酰囟或者通式為（Ⅵ）的化合物：

式中R¹⁰為碳原子數(shù)1至6的低級烴或苯基，X¹為囟原子或三氟甲磺酰氧基團，n為1至4的整數(shù)。

根據(jù)本發(fā)明，這里提供了合成通式為（Ⅱ）的4-乙酰氧基-3-羥乙基氮雜環(huán)丁-2-酮衍生物的方法：

式中R¹為羥基的保護基，由通式為（Ⅰ）的β-內(nèi)酰胺在堿和一個催化劑存在下與乙酸酐反應。

式中R¹同上所述，R²、R³和R⁴相同或不同，每一個都為碳原子數(shù)在1至4的低級烷基或芳香烷基。催化劑選于一組下列化合物：有機強酸、無機酸、路易斯酸、通式為（Ⅳ）的酰囟、通式為（Ⅴ）的磺酰囟和通式為（Ⅵ）的化合物。

式中R⁸為烷基、芳香烷基或苯基，X為囟素原子。

式中R⁹為一烷基、芳香烷基或苯基，X為囟素原子。

式中R¹⁰為碳原子數(shù)1至6的低級烷基或苯基，X¹為囟素原子或三氟甲磺酰氧基，n為1至4的整數(shù)。

如發(fā)明者在專利申請中所示（日本未審查專利出版號18791/1986），C4位用硅醚保護，通式為（Ⅰ）的β-內(nèi)酰胺可容易地如反應路線Ⅰ的方法制得：

β-內(nèi)酰胺化合物（Ⅰ）C3位上羥乙基的O-保護基，即羥基保護基的例子可以是通式為（Ⅲ）的三烷基硅基：

式中R⁵、R⁶和R⁷相同或不同，每個都是碳原子數(shù)為1至6的低級烷基，并且R⁵、R⁶和R⁷不都是一個碳原子。這類基團的例子諸如叔丁基二甲基硅基、三異丙基硅基、異丙基二甲基硅基、異丁基二甲基硅基、二甲基-（1，2-二甲基丙基）硅基和二甲基-（1，1，2-三甲基丙基）硅基。此外，這類基團（Ⅲ）的其它例子還有叔丁基、芐基、三氯乙氧羰基、叔丁氧羰基、對-硝基芐氧羰基和類似基團。其中，叔丁基二甲基硅基，異丙基二甲基硅基，二甲基-（1，1，2-三甲基丙基）硅基和二甲基-（1，2-二甲基丙基）硅基更好，因為它們在反應過程中穩(wěn)定并且可以用酸處理選擇性地脫除。