[其他]采用氮保護氣氛制造直拉(切氏法)硅單晶的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 101985000000295 | 申請日: | 1985-04-01 |
| 公開(公告)號: | CN85100295B | 公開(公告)日: | 1986-02-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 闕端麟;李立本;林玉瓶 | 申請(專利權(quán))人: | 浙江大學(xué) |
| 主分類號: | 分類號: | ||
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 浙江省杭*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | 本發(fā)明屬于直拉(切氏法)硅單晶生長技術(shù)領(lǐng)域。采用純氮作為直拉硅單晶的保護氣體,所用的氮氣純度為99.999%以上,進入爐內(nèi)氮氣壓力為0.5~60托,氮氣流量為2~50升/分,所用的充氮設(shè)備及控制方法與充氬工藝相同。由于氮氣來源豐富,價格低廉,可大幅度地降低硅單晶生產(chǎn)成本,提高硅單晶質(zhì)量,產(chǎn)生積極的經(jīng)濟效果。 | ||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 采用 保護 氣氛 制造 切氏法 硅單晶 方法 | ||
【主權(quán)項】:
暫無信息
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