[其他]垂直磁性記錄介質(zhì)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 101985000003512 | 申請日： | 1985-05-02 |
| 公開（公告）號： | CN85103512B | 公開（公告）日： | 1988-12-21 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 二本正昭;本多幸雄;上坂保太郎;吉田和悅 | 申請（專利權(quán)）人： | 株式會社日立制作所;日立精機(jī)株式會社 |
| 主分類號： | 分類號： | ||
| 代理公司： | 中國專利代理有限公司 | 代理人： | 吳秉芬 |
| 地址： | 日本東京都千代*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | 所公開的材料是有關(guān)垂直磁性記錄介質(zhì)的。其中從屬層是由硅及／或鍺作為主要成分的材料所組成。該從屬層沉積在一襯底上而由鈷基合金所做成的垂直磁膜則沉積在該從屬層上。這種垂直磁性記錄介質(zhì)其垂直磁性膜的ｅ軸定向度已經(jīng)得到增強(qiáng)，且當(dāng)襯底為非金屬材料時。垂直磁性膜及襯底之間的結(jié)合強(qiáng)度也得到了加強(qiáng)。 | ||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 垂直 磁性 記錄 介質(zhì) | ||
【主權(quán)項(xiàng)】：
暫無信息
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