[其他]薄膜磁頭及其制造方法在審
| 申請號： | 101987000000502 | 申請日： | 1987-01-27 |
| 公開（公告）號： | CN1004035B | 公開（公告）日： | 1989-04-26 |
| 發明（設計）人： | 今中律;高木政幸;戶川衛星;藤治信;長池完訓;大浦正樹;鈴木三郎;小林哲夫;鍬俊一郎 | 申請（專利權）人： | 株式會社日立制作所 |
| 主分類號： | 分類號： | ||
| 代理公司： | 中國專利代理有限公司 | 代理人： | 曹濟洪;董江雄 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | 一種薄膜磁頭，在其由第一和第二磁層構成的磁路中，帶有兩層導體層。該磁路在其與錄制介質相對的一側，有著第一和第二磁層在基本等于縫隙深度的長度上相互對應的部分，而非磁性縫隙層插入其間，另外還有著上述兩磁層相互連接的前部。縫隙層的邊緣構成了磁路的縫隙。如上配置的薄膜磁頭可在不減少其生產量的情況下實現高密度錄制。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 薄膜 磁頭 及其 制造 方法 | ||
【主權項】：
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