[其他]內酯的制造方法無效
| 申請號： | 85105078 | 申請日： | 1985-07-03 |
| 公開（公告）號： | CN85105078A | 公開（公告）日： | 1986-12-31 |
| 發明（設計）人： | 霍斯特·波林;克里斯托弗·韋爾利 | 申請（專利權）人： | 弗·哈夫曼-拉羅徹公司 |
| 主分類號： | C07D493/04 | 分類號： | C07D493/04;//;23500;30700) |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利代理部 | 代理人： | 李雒英,崔曉光 |
| 地址： | 瑞士*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | 本發明介紹制造式Ⅰ所示旋光內酯的新方法，該方法包括使式Ⅱ所示環酐與式Ⅲ所示手性仲醇反應，然后還原所得的式Ⅳ所示的半酯取代基R和R1的含義如說明書中所述。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 內酯 制造 方法 | ||
【主權項】：
1、制備式Ⅰ所示旋光內酯的方法式中R代表芐基，該方法包括由式Ⅱ所示的環酐與通式Ⅲ所示的手性仲醇反應，其中R的含意同上所述式中R1代表下式所示基團式中R2表示氫、囟素、低級烷基或低級烷氧基，R3表示氫或羥基，或者若基團(b)中的R2為氫時，R3也表示低級烷基、低級烷氧基或苯基，R4表示可被氯或甲基、噻吩基或2-呋喃基任意取代的環烷基或苯基，R5表示氫或低級烷基，R6表示低級烷基或苯基，A表示硫或亞甲基，B表示硫、-SO2-或亞甲基，若A表示硫，n是1，若A表示亞甲基，n是1或2，然后用一種配位氫硼化物，還原上述反應生成的式(Ⅳ)所示的半酯式中R7代表基團R和R1的含意如上所述。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于弗·哈夫曼-拉羅徹公司，未經弗·哈夫曼-拉羅徹公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://m.szxzyx.cn/patent/85105078/，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：復合膜的生產
- 下一篇：制備頭孢菌素抗菌素的方法
